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雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀◕✘，其中一個靶頭採用直流（DC）濺射◕✘，可濺射金屬靶材製備金屬膜◕✘，另一個採用射頻（RF）濺射◕✘，可濺射金屬和氧化物靶材◕✘，製備金屬或氧化物膜.裝置上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度╃╃·◕▩。此裝置可製作各種單層或多層薄膜◕✘，如鐵電╃↟│◕、導電◕✘，合金◕✘，半導體◕✘，陶瓷◕✘，介電◕✘，光學◕✘，氧化物和PTFE薄膜等╃╃·◕▩。而且裝置體積較小操作方便◕✘，是一套理想的實驗工具╃╃·◕▩。
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