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  • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

    雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀↟☁,其中一個靶頭採用直流(DC)濺射↟☁,可濺射金屬靶材製備金屬膜↟☁,另一個採用射頻(RF)濺射↟☁,可濺射金屬和氧化物靶材↟☁,製備金屬或氧化物膜.裝置上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度☁▩◕•。此裝置可製作各種單層或多層薄膜↟☁,如鐵電◕✘、導電↟☁,合金↟☁,半導體↟☁,陶瓷↟☁,介電↟☁,光學↟☁,氧化物和PTFE薄膜等☁▩◕•。而且裝置體積較小操作方便↟☁,是一套理想的實驗工具☁▩◕•。

    訪問次數↟•▩·:2772    產品價格↟•▩·:面議    廠商性質↟•▩·:生產廠家    更新日期↟•▩·:2022-10-12

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