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  • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

    雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀◕☁◕↟,其中一個靶頭採用直流(DC)濺射◕☁◕↟,可濺射金屬靶材製備金屬膜◕☁◕↟,另一個採用射頻(RF)濺射◕☁◕↟,可濺射金屬和氧化物靶材◕☁◕↟,製備金屬或氧化物膜.裝置上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度│₪◕。此裝置可製作各種單層或多層薄膜◕☁◕↟,如鐵電↟▩✘✘、導電◕☁◕↟,合金◕☁◕↟,半導體◕☁◕↟,陶瓷◕☁◕↟,介電◕☁◕↟,光學◕☁◕↟,氧化物和PTFE薄膜等│₪◕。而且裝置體積較小操作方便◕☁◕↟,是一套理想的實驗工具│₪◕。

    訪問次數₪▩:2248    產品價格₪▩:面議    廠商性質₪▩:生產廠家    更新日期₪▩:2021-11-15

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