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HVMSS-SPC-2是一款可安裝直徑為2英寸靶材的磁控濺射頭•▩↟↟，可適用的靶材種類較廣•▩↟↟，如金屬/絕緣靶材或磁性/非磁性靶材↟╃╃₪•。環形NdFeB永磁體安裝在濺射頭上•▩↟↟，以保證濺射鍍膜的效率和均勻性↟╃╃₪•。此款濺射頭可與DC或RF電源配合使用↟╃╃₪•。
500W直流濺射電源--DC-500-LD
HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭•▩↟↟，可安裝直徑為1英寸的靶材↟╃╃₪•。可與直流✘▩✘☁↟、脈衝直流和射頻電源相匹配•▩↟↟，以至於可以濺射各種靶材（如金屬✘▩✘☁↟、陶瓷✘▩✘☁↟、磁性和非磁性靶材等）↟╃╃₪•。而且高真空的結構設計•▩↟↟，可提高鍍膜質量↟╃╃₪•。
本公司提供高真空腔體•▩↟↟，客戶可自行為一些實驗搭建真空系統•▩↟↟，如等離子濺射•▩↟↟，CVD或ALD等實驗•▩↟↟，同時也可作為高真空儲存箱↟╃╃₪•。
RF-100-LD是一款小型手動匹配100WRF（射頻）電源•▩↟↟，頻率為13.56MHz.此裝置設計專門與本公司的1英寸的磁控濺射頭配用•▩↟↟，可搭建起一套比較廉價的濺射鍍膜系統•▩↟↟，用於製作非導電薄膜↟╃╃₪•。
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