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VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統◕✘·▩₪，系統中包含了所有所需的配件◕✘·▩₪，如300W（13.5MHz）的RF電源▩•▩✘•、2“的磁控濺射頭▩•▩✘•、石英真空腔體▩•▩✘•、真空泵和溫度控制器等↟◕·。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜◕✘·▩₪，它是一款物美價廉的實驗幫手↟◕·。
VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀（射頻磁控型）◕✘·▩₪，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源◕✘·▩₪，此款裝置主要用於製作非導電薄膜◕✘·▩₪，特別是一些氧化物薄膜↟◕·。對於新型非導電薄膜的探索◕✘·▩₪，它是一款廉價並且高效的實驗幫手↟◕·。
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