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5靶頭等離子射頻磁控濺射儀

簡要描述▩▩₪◕☁:VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀↟₪╃▩,針對於高通量MGI(材料基因組計劃)薄膜的研究◕◕✘│。特別適合用於探索固態電解質材料↟₪╃▩,透過5種元素↟₪╃▩,按16種不同配比組合◕◕✘│。

  • 產品型號▩▩₪◕☁:VTC-5RFI薄膜研究
  • 廠商性質▩▩₪◕☁:生產廠家
  • 更新時間▩▩₪◕☁:2022-10-12
  • 訪  問  量▩▩₪◕☁:1821

詳細介紹

 VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀↟₪╃▩,針對於高通量MGI(材料基因組計劃)薄膜的研究◕◕✘│。特別適合用於探索固態電解質材料↟₪╃▩,透過5種元素↟₪╃▩,按16種不同配比組合◕◕✘│。

 

技術引數

概念

  • 5個濺射頭安裝5種不同材料
  • 透過不同的濺射時間↟₪╃▩,5種材料可以濺射出不同組分的產物↟₪╃▩,
  • 選擇5個等離子射頻電源↟₪╃▩,可在同一時間濺射5種材料
  • 真空腔體中安裝有旋轉樣品臺↟₪╃▩,可以製作16個樣品

電源

單相220 VAC, 50 / 60 Hz

射頻電源

  • 一個13.5MHz,300W自動匹配的射頻電源安裝在儀器上↟₪╃▩,並與靶頭相連線
  • 一個旋轉開關可一次啟用一個濺射頭◕◕✘│。濺射頭可以在真空或等離子體環境中自動切換
  • 可選購多個射頻電源↟₪╃▩,同一時間濺射多個靶材◕◕✘│。
  • 所有的濺射引數↟₪╃▩,都可由電腦設定

直流電源(可選)

  • 可選購直流電源↟₪╃▩,來濺射金屬靶材
  • 可配置5個直流或射頻電源↟₪╃▩,來同時濺射5中靶材

磁控濺射頭

 

  • 5個1英寸的磁控濺射頭↟₪╃▩,帶有水冷夾層
  • 可在本公司額外購買射頻線
  • 電動擋板安裝在濺射腔體內
  • 裝置中配有一迴圈水冷機↟₪╃▩,水流量為10L/min
  •  (1)  (2) (3) (4)

濺射靶材


  • 所要求靶材尺寸▩▩₪◕☁:直徑為25.4mm,zui大厚度3mm
  • 濺射距離: 50 – 80 mm(可調)
  • 濺射角度: 0 – 25°(可調)
  • 配有銅靶和 Al2O3 靶↟₪╃▩,用於樣品測試用
  • 可在本公司購買各種靶材
  • 實驗時↟₪╃▩,需要將靶材和銅片粘合↟₪╃▩,可透過導電銀漿粘合(可在本公司購買導電銀漿)

真空腔體

 

  • 真空腔體採用304不鏽鋼製作
  • 腔體內部尺寸:  470mm L×445mm D×522mm H  (~ 105 L)
  • 鉸鏈式腔門↟₪╃▩,直徑為Φ380mm,上面安裝有Φ150mm的玻璃視窗
  • 真空度: 4E-5 torr (採用分子泵)

樣品臺

  • 直徑為150mm的樣品臺↟₪╃▩,上面覆蓋一旋轉臺↟₪╃▩,帶有10mm的孔洞↟₪╃▩,每次露出一個樣品接收濺射成膜◕◕✘│。
  • 樣品臺尺寸▩▩₪◕☁:Φ150mm,可透過程式控制來旋轉↟₪╃▩,可製作16種不同組分的薄膜
  • 樣品臺可以加熱↟₪╃▩,zui高溫度可達600℃

真空泵

  • 裝置中配有一小型渦旋分子泵
  • 真空泵介面為KF40

石英振盪測厚儀(可選)

可選購精密石英振盪測厚儀↟₪╃▩,安裝在真空腔體內↟₪╃▩,實時測量薄膜的厚度↟₪╃▩,精確度為0.1 Å(需水冷)

淨重

60kg

質量認證

CE認證

質保

一年質保期↟₪╃▩,終生維護

應用注意事項

  • 此款裝置設定主要是在單晶基片上製作氧化物薄膜↟₪╃▩,所以不需要高真空的環境
  • 所用氣瓶上必須安裝減壓閥(可在本公司購買)↟₪╃▩,所用Ar氣純度為5N
  • 為了得到較好質量的薄膜↟₪╃▩,可以對基片進行清洗
  • 用超聲波清洗機↟₪╃▩,用丙酮或乙醇作為清洗介質↟₪╃▩,清除基片表面的油脂↟₪╃▩,然後在N2氣或真空環境下對基片乾燥
  • 等離子清洗機↟₪╃▩,可使基片表面粗糙化↟₪╃▩,改變基片表面化學活性↟₪╃▩,清除表面汙染物
  • 可在基片表面鍍上緩衝層↟₪╃▩,如Cr, Ti, Mo, Ta,↟₪╃▩,可改善金屬或合金膜的粘附性
  • 濺射一些非導電靶材↟₪╃▩,其靶材背後必須附上銅墊片
  • 本公司實驗室成功地在Al2O3基片上成功生長出ZnO外延膜
  • 因為濺射頭連線著高電壓↟₪╃▩,所以使用者在放入樣品或更換靶材時↟₪╃▩,必須切斷電源
  • 不可用自來水作為冷卻水↟₪╃▩,以防水垢堵塞水管◕◕✘│。應該用等離子水↟₪╃▩,或冷卻介質
  •   

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