簡要描述│✘│:雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀↟✘•▩•,其中一個靶頭採用直流(DC)濺射↟✘•▩•,可濺射金屬靶材製備金屬膜↟✘•▩•,另一個採用射頻(RF)濺射↟✘•▩•,可濺射金屬和氧化物靶材↟✘•▩•,製備金屬或氧化物膜.裝置上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度↟☁▩☁·。此裝置可製作各種單層或多層薄膜↟✘•▩•,如鐵電◕₪✘•↟、導電↟✘•▩•,合金↟✘•▩•,半導體↟✘•▩•,陶瓷↟✘•▩•,介電↟✘•▩•,光學↟✘•▩•,氧化物和PTFE薄膜等↟☁▩☁·。而且裝置體積較小操作方便↟✘•▩•,是一套理想的實驗工具↟☁▩☁·。
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儀技術引數
結構 |
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輸入電源 |
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濺射電源 |
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磁控濺射頭 |
也可以根據自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭↟✘•▩•,訂購前需於本公司銷售人員 |
真空腔體 |
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載樣臺 |
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氣體流量控制器 |
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真空泵系統 | 配有一套分子泵系統(德國製作)↟✘•▩•,採用一鍵式操作 |
薄膜測厚儀 |
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外形尺寸 | L1300mm× W660mm× H1200mm |
重量 | 160 kg |
質保期 | 一年質保期↟✘•▩•,終生維護 |
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