雙靶磁控濺射儀

簡要描述│✘│：雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀↟✘•▩•，其中一個靶頭採用直流（DC）濺射↟✘•▩•，可濺射金屬靶材製備金屬膜↟✘•▩•，另一個採用射頻（RF）濺射↟✘•▩•，可濺射金屬和氧化物靶材↟✘•▩•，製備金屬或氧化物膜.裝置上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度↟☁▩☁·。此裝置可製作各種單層或多層薄膜↟✘•▩•，如鐵電◕₪✘•↟、導電↟✘•▩•，合金↟✘•▩•，半導體↟✘•▩•，陶瓷↟✘•▩•，介電↟✘•▩•，光學↟✘•▩•，氧化物和PTFE薄膜等↟☁▩☁·。而且裝置體積較小操作方便↟✘•▩•，是一套理想的實驗工具↟☁▩☁·。

產品型號│✘│：VTC-600-2HD
廠商性質│✘│：生產廠家
更新時間│✘│：2022-10-12
訪問量│✘│：3079

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產品分類

薄膜製備全套裝置

3靶等離子濺射儀火焰輔助噴霧熱分解塗覆裝置超聲波霧化模組多功能試樣表面處理機小型蒸鍍儀高真空蒸發鍍膜儀小型磁控射頻濺射鍍膜儀射頻等離子磁控濺射鍍膜儀直流等離子磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射儀提拉塗膜裝置旋轉塗層裝置（勻膠機）流延及絲印塗覆裝置磁控濺射鍍膜裝置蒸發鍍膜裝置等離子鍍膜裝置熱噴塗鍍膜裝置/靜電紡絲鍍膜裝置濺射源及真空腔體檢視全部產品

詳細介紹

儀技術引數

結構	（點選圖片檢視詳細資料）
輸入電源	220VAC 50/60Hz, 單相 2000W (包括泵)
濺射電源	安裝有兩個濺射電源直流（DC）電源│✘│：500W↟✘•▩•，針對於製作金屬膜射頻（RF）電源│✘│：600W↟✘•▩•，可製作氧化物和金屬膜同時可選配300W的射頻電源
磁控濺射頭	儀器中安裝有2個磁控濺射頭↟✘•▩•，而且都帶有水冷夾層↟✘•▩•，可通入冷卻水對靶材降溫其中一個濺射頭與射頻電源相連線↟✘•▩•，主要是濺射絕緣性靶材另一個濺射頭與直流電源相連線↟✘•▩•，主要濺射導電性靶材靶材尺寸要求│✘│：金屬靶│✘│：直徑為50mm,zui大厚度1.5mm 陶瓷靶│✘│：直徑為50mm,zui大厚度6mm 儀器中標配一個不鏽鋼靶和氧化鋁陶瓷靶濺射頭所需冷卻水│✘│：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的迴圈水冷機）也可以根據自己的要求選擇2個射頻濺射頭或3個射頻濺射頭↟✘•▩•，訂購前需於本公司銷售人員
真空腔體	真空腔體│✘│：300 mm Dia x 300 mm h↟✘•▩•，採用不鏽鋼製作觀察視窗│✘│： 100 mm diameter 腔體開啟方式採用上頂開↟✘•▩•，使得換靶更加容易
載樣臺	載樣臺尺寸│✘│：140mm dia.（zui大可放置4"的基底）載樣臺可以旋轉↟✘•▩•，其速度為│✘│：1 - 20 rpm （可調）載樣臺zui高可加熱溫度為500℃↟✘•▩•，控溫精度為+/- 1.0 °C
氣體流量控制器	儀器內部安裝有2個質量流量計量程為│✘│：0-200sccm 氣體流量設定可以在6英寸的觸控式螢幕上進行操作
真空泵系統	配有一套分子泵系統（德國製作）↟✘•▩•，採用一鍵式操作
薄膜測厚儀	一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上↟✘•▩•，可實時監測薄膜的厚度↟✘•▩•，解析度為0.10 Å LED顯示屏顯示↟✘•▩•，同時也輸入所製作薄膜的相關資料
外形尺寸	L1300mm× W660mm× H1200mm
重量	160 kg
質保期	一年質保期↟✘•▩•，終生維護