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直流等離子磁控濺射鍍膜儀

簡要描述·✘╃╃₪:直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統│▩·▩◕,系統中包含了所有所需的配件│▩·▩◕,如500W(600V)的DC電源✘•₪、2英寸的磁控濺射頭✘•₪、石英真空腔體✘•₪、真空泵和溫度控制器等╃₪☁▩。對於製作一些金屬薄膜│▩·▩◕,它是一款物美價廉的實驗手╃₪☁▩。

  • 產品型號·✘╃╃₪:VTC-2DC
  • 廠商性質·✘╃╃₪:生產廠家
  • 更新時間·✘╃╃₪:2021-11-15
  • 訪  問  量·✘╃╃₪:1611
詳細介紹

直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統│▩·▩◕,系統中包含了所有所需的配件│▩·▩◕,如500W600V)的DC電源✘•₪、2英寸的磁控濺射頭✘•₪、石英真空腔體✘•₪、真空泵和溫度控制器等╃₪☁▩。對於製作一些金屬薄膜│▩·▩◕,它是一款物美價廉的實驗手╃₪☁▩。
用直流磁控濺射儀可獲得單相Al

 直流等離子磁控濺射鍍膜儀技術引數

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 1000W  (包括真空泵)

等離子源

  • 一個500W│▩·▩◕,600V的直流電源安裝在移動櫃內(點選圖片檢視詳細資料)

磁控濺射頭

  • 一個2英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層)│▩·▩◕,採用快速接頭與真空腔體相連線
  • 靶材尺寸: 直徑為50mm,zui大厚度1.5mm
  • 一個快速擋板安裝在法蘭上(手動操作│▩·▩◕,見圖左3)
  • 濺射頭所需冷卻水·✘╃╃₪:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的迴圈水冷機)
  • 同時可選配1英寸濺射頭
       

真空腔體

  • 真空腔體·✘╃╃₪:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H│▩·▩◕,採用高純石英制作
  • 密封法蘭:直徑為165 mm .  採用金屬鋁製作│▩·▩◕,採用矽膠密封圈密封
  • 一個不鏽鋼網罩住整個石英腔體│▩·▩◕,以遮蔽等離子體
  • 真空度·✘╃╃₪:10-3 Torr (採用雙極旋片真空泵)│▩·▩◕, 10-5 torr (採渦旋分子泵)

載樣臺

  • 載樣臺可旋轉(為了制膜更加均勻)並可加熱
  • 載樣臺尺寸·✘╃╃₪:直徑50mm (zui大可放置2英寸的基片)
  • 旋轉速度·✘╃╃₪:1 - 20 rpm
  • 樣品的zui高加熱溫度為700℃│▩·▩◕,(短期使用│▩·▩◕,恆溫不超過1小時)│▩·▩◕,長期使用溫度500℃
  • 控溫精度+/- 10℃

真空泵

可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國製作的分子泵系統
      

薄膜測厚儀

  • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上│▩·▩◕,可實時監測薄膜的厚度│▩·▩◕,解析度為0.10 ?  
  • LED顯示屏顯示│▩·▩◕,同時也輸入所製作薄膜的相關資料
     

外形尺寸

     

重量 70Kg

質保和質量認證

  • 一年質保期│▩·▩◕,終生維護
  • CE認證

使用注意事項

  • 為了得到較好的金屬膜│▩·▩◕,特別是針對易氧化的金屬│▩·▩◕,如Al, Mg和Li等│▩·▩◕,必須通入高純惰性氣體(> 5N)
  • 強烈建議採用PPM極的氣體淨化系統(將鋼瓶中的惰性氣體透過淨化系統過後│▩·▩◕,再匯入到真空腔體內)
  • 我們也可在裝置中安裝射頻(RF)電源│▩·▩◕,用於濺射非導電靶材│▩·▩◕,來製備非金屬薄膜
      
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