直流等離子磁控濺射鍍膜儀

輸入電源

• 220VAC 50/60Hz, 單相
• 1000W  (包括真空泵）

等離子源

• 一個500W│▩·▩◕，600V的直流電源安裝在移動櫃內(點選圖片檢視詳細資料）
• 

磁控濺射頭

• 一個2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層）│▩·▩◕，採用快速接頭與真空腔體相連線
• 靶材尺寸: 直徑為50mm,zui大厚度1.5mm
• 一個快速擋板安裝在法蘭上（手動操作│▩·▩◕，見圖左3）
• 濺射頭所需冷卻水·✘╃╃₪：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的迴圈水冷機）
• 同時可選配1英寸濺射頭
     

真空腔體

• 真空腔體·✘╃╃₪：160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H│▩·▩◕，採用高純石英制作
• 密封法蘭:直徑為165 mm .  採用金屬鋁製作│▩·▩◕，採用矽膠密封圈密封
• 一個不鏽鋼網罩住整個石英腔體│▩·▩◕，以遮蔽等離子體
• 真空度·✘╃╃₪：10-3 Torr （採用雙極旋片真空泵）│▩·▩◕， 10-5 torr （採渦旋分子泵）

載樣臺

• 載樣臺可旋轉（為了制膜更加均勻）並可加熱
• 載樣臺尺寸·✘╃╃₪：直徑50mm （zui大可放置2英寸的基片）
• 旋轉速度·✘╃╃₪：1 - 20 rpm
• 樣品的zui高加熱溫度為700℃│▩·▩◕，(短期使用│▩·▩◕，恆溫不超過1小時)│▩·▩◕，長期使用溫度500℃
• 控溫精度+/- 10℃
  

真空泵

可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國製作的分子泵系統
      

薄膜測厚儀

• 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上│▩·▩◕，可實時監測薄膜的厚度│▩·▩◕，解析度為0.10 ?  
• LED顯示屏顯示│▩·▩◕，同時也輸入所製作薄膜的相關資料
   

外形尺寸

質保和質量認證

• 一年質保期│▩·▩◕，終生維護
• CE認證

使用注意事項

• 為了得到較好的金屬膜│▩·▩◕，特別是針對易氧化的金屬│▩·▩◕，如Al, Mg和Li等│▩·▩◕，必須通入高純惰性氣體（> 5N）
• 強烈建議採用PPM極的氣體淨化系統（將鋼瓶中的惰性氣體透過淨化系統過後│▩·▩◕，再匯入到真空腔體內）
• 我們也可在裝置中安裝射頻(RF)電源│▩·▩◕，用於濺射非導電靶材│▩·▩◕，來製備非金屬薄膜