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射頻等離子磁控濺射鍍膜儀

簡要描述◕↟☁:射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統₪╃▩₪·,系統中包含了所有所需的配件₪╃▩₪·,如300W(13.5MHz)的RF電源₪◕·₪、2“的磁控濺射頭₪◕·₪、石英真空腔體₪◕·₪、真空泵和溫度控制器等☁☁·▩。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜₪╃▩₪·,它是一款物美價廉的實驗幫手☁☁·▩。

  • 產品型號◕↟☁:VTC-2RF
  • 廠商性質◕↟☁:生產廠家
  • 更新時間◕↟☁:2021-11-15
  • 訪  問  量◕↟☁:1973
詳細介紹

   射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統₪╃▩₪·,系統中包含了所有所需的配件₪╃▩₪·,如300W13.5MHz)的RF電源₪◕·₪、2"的磁控濺射頭₪◕·₪、石英真空腔體₪◕·₪、真空泵和溫度控制器等☁☁·▩。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜₪╃▩₪·,它是一款物美價廉的實驗幫手☁☁·▩。
我們用此裝置得到擇優取向的ZnO薄膜


技術引數

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 800W  (包括真空泵)

等離子源

一個300W₪╃▩₪·,13.5MHz的射頻電源安裝在移動櫃內

(點選圖片檢視詳細資料)

 

磁控濺射頭

  • 一個 2英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層)₪╃▩₪·,採用快速接頭與真空腔體相連線
  • 靶材尺寸: 直徑為50mm,zui大厚度6.35mm
  • 一個快速擋板安裝在法蘭上(手動操作₪╃▩₪·,見圖左3)
  • 濺射頭所需冷卻水◕↟☁:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的迴圈水冷機)
  • 同時可選配1英寸濺射頭

真空腔體

  • 真空腔體◕↟☁:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H₪╃▩₪·,採用高純石英制作
  • 密封法蘭:直徑為165 mm .  採用金屬鋁製作₪╃▩₪·,採用矽膠密封圈密封
  • 一個不鏽鋼網罩住整個石英腔體₪╃▩₪·,以遮蔽等離子體
  • 真空度◕↟☁:10-3 Torr (採用雙極旋片真空泵)
  •         10-5 torr (採渦旋分子泵)

載樣臺

  • 載樣臺可旋轉(為了制膜更加均勻)並可加熱
  • 載樣臺尺寸◕↟☁:直徑50mm (zui大可放置2英寸的基片)
  • 旋轉速度◕↟☁:1 - 20 rpm
  • 樣品的zui高加熱溫度為700℃₪╃▩₪·,(短期使用₪╃▩₪·,恆溫不超過1小時)₪╃▩₪·,長期使用溫度500℃
  • 控溫精度+/- 10℃

真空泵

可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國製作的分子泵系統

   

薄膜測厚儀

  • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上₪╃▩₪·,可實時監控薄膜的厚度₪╃▩₪·,解析度為0.10 ?  
  • LED顯示屏顯示₪╃▩₪·,同時也輸入所製作薄膜的相關資料

外形尺寸

              

質保和質量認證

  • 一年質保期₪╃▩₪·,終生維護
  • CE認證

使用注意事項

  • 這款2英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用於在單晶基片上製備氧化物膜₪╃▩₪·,所以並不需要太高的真空度
  • 為了較好地排出真空腔體中的氧氣₪╃▩₪·,建議用5%H2+95 %N2對真空腔體清洗₪╃▩₪·,可有效減少真空腔體中的氧含量
  • 請用純度大於5N的Ar來進行等離子濺射₪╃▩₪·,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水₪╃▩₪·,所以建議將鋼瓶中的惰性氣體透過淨化系統過後₪╃▩₪·,再匯入到真空腔體內

 

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