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射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統☁✘◕,系統中包含了所有所需的配件☁✘◕,如300W(13.5MHz)的RF電源╃•↟、2"的磁控濺射頭╃•↟、石英真空腔體╃•↟、真空泵和溫度控制器等•✘。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜☁✘◕,它是一款物美價廉的實驗幫手•✘。
我們用此裝置得到擇優取向的ZnO薄膜
技術引數
輸入電源 |
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等離子源 | 一個300W☁✘◕,13.5MHz的射頻電源安裝在移動櫃內
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磁控濺射頭 |
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真空腔體 |
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載樣臺 |
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真空泵 | 可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國製作的分子泵系統 |
薄膜測厚儀 |
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外形尺寸 | |
質保和質量認證 |
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使用注意事項 |
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