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小型磁控射頻濺射鍍膜儀是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型)│·✘│₪,配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源│·✘│₪,此款裝置主要用於製作非導電薄膜│·✘│₪,特別是一些氧化物薄膜◕✘╃╃。對於新型非導電薄膜的探索│·✘│₪,它是一款廉價並且高效的實驗幫手◕✘╃╃。
我們用此裝置得到擇優取向的ZnO薄膜
技術引數
輸入電源 |
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等離子源 |
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磁控濺射頭 |
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真空腔體 |
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載樣臺 |
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真空泵 | 可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國製作的分子泵系統 |
薄膜測厚儀 |
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質保和質量認證 |
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使用注意事項 |
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