小型磁控射頻濺射鍍膜儀

簡要描述▩₪▩：小型磁控射頻濺射鍍膜儀是一款小型臺式單靶等離子濺射儀（射頻磁控型）│·✘│₪，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源│·✘│₪，此款裝置主要用於製作非導電薄膜│·✘│₪，特別是一些氧化物薄膜◕✘╃╃。對於新型非導電薄膜的探索│·✘│₪，它是一款廉價並且高效的實驗幫手◕✘╃╃。

產品型號▩₪▩：VTC-1RF
廠商性質▩₪▩：生產廠家
更新時間▩₪▩：2022-10-12
訪問量▩₪▩：2988

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產品分類

薄膜製備全套裝置

3靶等離子濺射儀火焰輔助噴霧熱分解塗覆裝置超聲波霧化模組多功能試樣表面處理機小型蒸鍍儀高真空蒸發鍍膜儀小型磁控射頻濺射鍍膜儀射頻等離子磁控濺射鍍膜儀直流等離子磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射儀提拉塗膜裝置旋轉塗層裝置（勻膠機）流延及絲印塗覆裝置磁控濺射鍍膜裝置蒸發鍍膜裝置等離子鍍膜裝置熱噴塗鍍膜裝置/靜電紡絲鍍膜裝置濺射源及真空腔體檢視全部產品

小型磁控射頻濺射鍍膜儀的理想效能值得你來體驗

詳細介紹

小型磁控射頻濺射鍍膜儀是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型)│·✘│₪，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源│·✘│₪，此款裝置主要用於製作非導電薄膜│·✘│₪，特別是一些氧化物薄膜◕✘╃╃。對於新型非導電薄膜的探索│·✘│₪，它是一款廉價並且高效的實驗幫手◕✘╃╃。

我們用此裝置得到擇優取向的ZnO薄膜

技術引數

輸入電源	220VAC 50/60Hz, 單相 800W (包括真空泵）
等離子源	一個100W│·✘│₪，13.5MHz的射頻電源安裝在移動櫃內配有一13.5MHz,100W的射頻電源（採用手動匹配）可選配300W射頻電源（自動匹配）注意▩₪▩：100W手動調節的RF（射頻）電源價格較低│·✘│₪，但是每一次對於不同的靶材│·✘│₪，都需要手動設定引數才能產生等離子體│·✘│₪，比較耗費時間◕✘╃╃。300W自動匹配的RF（射頻）電源│·✘│₪，價格較昂貴│·✘│₪，但比較節約時間◕✘╃╃。（點選圖片檢視詳細資料）
磁控濺射頭	一個1英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層）│·✘│₪，採用快速接頭與真空腔體相連線靶材尺寸: 直徑為25.4mm,zui大厚度3mm 一個快速擋板安裝在法蘭上（手動操作│·✘│₪，見圖左3）濺射頭所需冷卻水▩₪▩：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的迴圈水冷機）同時可選配2英寸濺射頭選配2英寸濺射頭靶材尺寸▩₪▩：直徑為50.8mm│·✘│₪，zui大厚度6mm
真空腔體	真空腔體▩₪▩：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H│·✘│₪，採用高純石英制作密封法蘭:直徑為165 mm . 採用金屬鋁製作│·✘│₪，採用矽膠密封圈密封一個不鏽鋼網罩住整個石英腔體│·✘│₪，以遮蔽等離子體真空度▩₪▩：<1.010-2 Torr （採用雙極旋片真空泵） <510-5 torr （採渦旋分子泵）
載樣臺	載樣臺可旋轉（為了制膜更加均勻）並可加熱載樣臺尺寸▩₪▩：直徑50mm （zui大可放置2英寸的基片）旋轉速度▩₪▩：1 - 20 rpm 樣品臺的zui高加熱溫度為700℃(短期使用│·✘│₪，恆溫不超過1小時)│·✘│₪，長期使用溫度500℃ 控溫精度+/- 10℃
真空泵	可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國製作的分子泵系統
薄膜測厚儀	一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上│·✘│₪，可實時監測薄膜的厚度│·✘│₪，解析度為0.10 ? LED顯示屏顯示│·✘│₪，同時也輸入所製作薄膜的相關資料
質保和質量認證	一年質保期│·✘│₪，終生維護 CE認證
使用注意事項	這款1英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用於在單晶基片上製備氧化物膜│·✘│₪，所以並不需要太高的真空度為了較好地排出真空腔體中的氧氣│·✘│₪，建議用5%H2+95 %N2對真空腔體清洗2-3次│·✘│₪，可有效減少真空腔體中的氧含量請用純度大於5N的Ar來進行等離子濺射│·✘│₪，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水│·✘│₪，所以建議將鋼瓶中的惰性氣體透過淨化系統過後│·✘│₪，再匯入到真空腔體內