小型磁控射頻濺射鍍膜儀

簡要描述✘₪：小型磁控射頻濺射鍍膜儀是一款小型臺式單靶等離子濺射儀（射頻磁控型）•╃☁▩₪，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源•╃☁▩₪，此款裝置主要用於製作非導電薄膜•╃☁▩₪，特別是一些氧化物薄膜▩✘╃₪│。對於新型非導電薄膜的探索•╃☁▩₪，它是一款廉價並且高效的實驗幫手▩✘╃₪│。

產品型號✘₪：VTC-1RF
廠商性質✘₪：生產廠家
更新時間✘₪：2021-11-15
訪問量✘₪：2676

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小型磁控射頻濺射鍍膜儀的理想效能值得你來體驗

詳細介紹

小型磁控射頻濺射鍍膜儀是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型)•╃☁▩₪，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源•╃☁▩₪，此款裝置主要用於製作非導電薄膜•╃☁▩₪，特別是一些氧化物薄膜▩✘╃₪│。對於新型非導電薄膜的探索•╃☁▩₪，它是一款廉價並且高效的實驗幫手▩✘╃₪│。

我們用此裝置得到擇優取向的ZnO薄膜

技術引數

輸入電源	220VAC 50/60Hz, 單相 800W (包括真空泵）
等離子源	一個100W•╃☁▩₪，13.5MHz的射頻電源安裝在移動櫃內配有一13.5MHz,100W的射頻電源（採用手動匹配）可選配300W射頻電源（自動匹配）注意✘₪：100W手動調節的RF（射頻）電源價格較低•╃☁▩₪，但是每一次對於不同的靶材•╃☁▩₪，都需要手動設定引數才能產生等離子體•╃☁▩₪，比較耗費時間▩✘╃₪│。300W自動匹配的RF（射頻）電源•╃☁▩₪，價格較昂貴•╃☁▩₪，但比較節約時間▩✘╃₪│。（點選圖片檢視詳細資料）
磁控濺射頭	一個1英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層）•╃☁▩₪，採用快速接頭與真空腔體相連線靶材尺寸: 直徑為25.4mm,zui大厚度3mm 一個快速擋板安裝在法蘭上（手動操作•╃☁▩₪，見圖左3）濺射頭所需冷卻水✘₪：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的迴圈水冷機）同時可選配2英寸濺射頭選配2英寸濺射頭靶材尺寸✘₪：直徑為50.8mm•╃☁▩₪，zui大厚度6mm
真空腔體	真空腔體✘₪：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H•╃☁▩₪，採用高純石英制作密封法蘭:直徑為165 mm . 採用金屬鋁製作•╃☁▩₪，採用矽膠密封圈密封一個不鏽鋼網罩住整個石英腔體•╃☁▩₪，以遮蔽等離子體真空度✘₪：<1.010-2 Torr （採用雙極旋片真空泵） <510-5 torr （採渦旋分子泵）
載樣臺	載樣臺可旋轉（為了制膜更加均勻）並可加熱載樣臺尺寸✘₪：直徑50mm （zui大可放置2英寸的基片）旋轉速度✘₪：1 - 20 rpm 樣品臺的zui高加熱溫度為700℃(短期使用•╃☁▩₪，恆溫不超過1小時)•╃☁▩₪，長期使用溫度500℃ 控溫精度+/- 10℃
真空泵	可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國製作的分子泵系統
薄膜測厚儀	一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上•╃☁▩₪，可實時監測薄膜的厚度•╃☁▩₪，解析度為0.10 ? LED顯示屏顯示•╃☁▩₪，同時也輸入所製作薄膜的相關資料
質保和質量認證	一年質保期•╃☁▩₪，終生維護 CE認證
使用注意事項	這款1英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用於在單晶基片上製備氧化物膜•╃☁▩₪，所以並不需要太高的真空度為了較好地排出真空腔體中的氧氣•╃☁▩₪，建議用5%H2+95 %N2對真空腔體清洗2-3次•╃☁▩₪，可有效減少真空腔體中的氧含量請用純度大於5N的Ar來進行等離子濺射•╃☁▩₪，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水•╃☁▩₪，所以建議將鋼瓶中的惰性氣體透過淨化系統過後•╃☁▩₪，再匯入到真空腔體內