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2單靶直流磁控濺射儀--VTC-16-SM

簡要描述╃↟₪:VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀·✘,包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉樣品臺·✘,外形小巧·✘,價效比高·✘,是製作各種金屬薄膜理想的鍍膜裝置·✘,可選配各種金屬靶材和真空泵☁◕│。

  • 產品型號╃↟₪:
  • 廠商性質╃↟₪:生產廠家
  • 更新時間╃↟₪:2022-10-12
  • 訪  問  量╃↟₪:1254

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詳細介紹

VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀·✘,包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉樣品臺·✘,外形小巧·✘,價效比高·✘,是製作各種金屬薄膜理想的鍍膜裝置·✘,可選配各種金屬靶材和真空泵☁◕│。

用直流磁控濺射儀可獲得單相Al

技術引數

輸入電壓

AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz

輸入功率

< 2000W 

輸出功率

  • 電壓╃↟₪:1600VDC
  • zui大電流╃↟₪:150mA 

腔體

石英腔體╃↟₪:167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height


濺射頭和樣品臺

  • 2英寸帶水冷磁控濺射頭
  • 一個直徑50mm不鏽鋼樣品臺·✘,樣品臺可旋轉·✘,旋轉速率0 - 5 RPM 
  • 配有一手動操作的擋板·✘,包含靶頭支撐架

  • 樣品臺和靶頭之間的距離可以調節·✘,調節範圍╃↟₪:60-100mm

         (點選圖片檢視詳細資料)

控制面板

6" PLC整合觸控式螢幕控制面板·✘,可控制真空✘•、電流✘•、靶材位置和基片加熱溫度


附件(可選)

  • 雙極旋片真空泵VRD-8·✘,KF25介面

  • KF25不鏽鋼波紋管

  • 10L/min 迴圈水冷機冷卻磁控靶頭  
      

氣氛

含一個控制進氣的針閥和一個放氣閥


靶材

  • 靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm
  • 適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金屬·✘,可選購

可選配件

  • 膜厚監測儀
  • 分子泵·✘,可獲得高真空·✘, >10E-5 torr
  • 為獲得的薄膜強度·✘,建議鍍膜前用等離子清洗機對基片進行清洗☁◕│。
  • 500度樣品加熱臺         
        

 

體積

    
  ( L 440mm×W 330mm × H 290mm 

淨重

20 kg ( not included pump )

質保和證書

  • 一年質保·✘,終生維護
  • CE認證

磁控濺射鍍膜知識

與客戶分享的磁控濺射鍍膜技術·✘,請點選文章連結Plasma Sputter Coating.  

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