2單靶直流磁控濺射儀--VTC-16-SM

輸入電壓

AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz

輸入功率

< 2000W 

輸出功率

• 電壓╃↟₪：1600VDC
• zui大電流╃↟₪：150mA 

腔體

石英腔體╃↟₪：167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height

濺射頭和樣品臺

• 2英寸帶水冷磁控濺射頭
• 一個直徑50mm不鏽鋼樣品臺·✘，樣品臺可旋轉·✘，旋轉速率0 - 5 RPM 

• 配有一手動操作的擋板·✘，包含靶頭支撐架

• 樣品臺和靶頭之間的距離可以調節·✘，調節範圍╃↟₪：60-100mm

       （點選圖片檢視詳細資料）

控制面板

6" PLC整合觸控式螢幕控制面板·✘，可控制真空✘•、電流✘•、靶材位置和基片加熱溫度

附件（可選）

• 雙極旋片真空泵VRD-8·✘，KF25介面

• KF25不鏽鋼波紋管

• 10L/min 迴圈水冷機冷卻磁控靶頭  
    

氣氛

含一個控制進氣的針閥和一個放氣閥

靶材

• 靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm
• 適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金屬·✘，可選購

可選配件

• 膜厚監測儀
• 分子泵·✘，可獲得高真空·✘， >10E-5 torr
• 為獲得的薄膜強度·✘，建議鍍膜前用等離子清洗機對基片進行清洗☁◕│。
• 500度樣品加熱臺         
      

體積

    
  ( L 440mm×W 330mm × H 290mm 

淨重

20 kg ( not included pump )

質保和證書

• 一年質保·✘，終生維護
• CE認證

磁控濺射鍍膜知識

與客戶分享的磁控濺射鍍膜技術·✘，請點選文章連結- Plasma Sputter Coating.