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1英寸高真空磁控濺射頭--HVMSS-SPC-1-LD

簡要描述↟╃₪☁:HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭₪₪◕₪,可安裝直徑為1英寸的靶材₪◕▩│。可與直流◕•▩、脈衝直流和射頻電源相匹配₪₪◕₪,以至於可以濺射各種靶材(如金屬◕•▩、陶瓷◕•▩、磁性和非磁性靶材等)₪◕▩│。而且高真空的結構設計₪₪◕₪,可提高鍍膜質量₪◕▩│。

  • 產品型號↟╃₪☁:
  • 廠商性質↟╃₪☁:生產廠家
  • 更新時間↟╃₪☁:2022-10-11
  • 訪  問  量↟╃₪☁:1339
詳細介紹

    HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭₪₪◕₪,可安裝直徑為1英寸的靶材₪◕▩│。可與直流◕•▩、脈衝直流和射頻電源相匹配₪₪◕₪,以至於可以濺射各種靶材(如金屬◕•▩、陶瓷◕•▩、磁性和非磁性靶材等)₪◕▩│。而且高真空的結構設計₪₪◕₪,可提高鍍膜質量₪◕▩│。

 

技術引數

特點

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  • 採用高質量的不鏽鋼和陶瓷材料製作
  • 採用電磁場的有元計算法來設計永磁體₪₪◕₪,以得到較高的磁場強度和均強場分佈
  • 磁體表面塗有一層保護層₪₪◕₪,以防止冷卻水的腐蝕₪₪◕₪,延長其使用壽命
  • 標準的HN型接頭₪₪◕₪,可與DCRF電源相匹配
  • 安裝是採用標準真空接頭₪₪◕₪,便於操作
  • 更換靶材較為簡單₪₪◕₪,無需調整濺射頭的高度
  • 配有一塊銅靶

濺射頭

 

(點選圖片檢視詳細資料)

  • 濺射頭的直徑:46.3mm
  • 所用靶的直徑:1.0 ± 0.02"(25.4mm)
  • 靶材的zui大厚度: 1/8" (3mm) 
  • 磁環:NdFeB稀土永磁鐵      
  • 杆的直徑:      3/4" O.D.

 

所需功率

DC (zui大) 250 W

RF (zui大)100 W

zui大陰極濺射電流

3A

陰極濺射電流

200 - 1,000 V

可選壓力範圍

~1 mTorr 1 Torr

濺射厚度均勻性圖

 

  • 注意↟╃₪☁:此圖是採用磁控濺射得的到一個200nm的薄膜₪₪◕₪,所用靶材為1英寸的銅靶₪◕▩│。薄膜是沉積在氧化的矽片上₪₪◕₪,實驗引數為↟╃₪☁:
  • 功率↟╃₪☁:直流150W
  • 真空環境↟╃₪☁:10mTorr(Ar)
  • 靶材與基片的距離↟╃₪☁:75mm

水冷卻

  • 所需水流量↟╃₪☁: 1/2 GPM
  • 進水溫度↟╃₪☁:<20 C
  • 水管接頭↟╃₪☁:0.25" O.D快插頭

接頭

  • 電路連線接頭↟╃₪☁:標準的HN型接頭₪₪◕₪,可與DCRF電源相匹配
  • 本公司會贈送一高真空快速接頭
  • 此快速接頭的內徑為0.75"₪₪◕₪,可將濺射頭安裝在真空腔體上₪₪◕₪,真空腔體上的安裝孔直徑為1英寸₪₪◕₪,真空腔體的壁厚不得大於1英寸
     

 

產品長度

14英寸(355.6mm)

產品重量

1.36kg

傾斜裝置

  • 濺射頭相對於杆zui大可傾斜+/- 45
  • 傾斜裝置上有刻度線₪₪◕₪,可觀察到靶頭傾斜的角度

可選配件

  • 迴圈水冷機₪₪◕₪,流量為16L / min ₪₪◕₪,水箱容積為6L
  • 本公司可提供各種配件可與HVMSS-SPC-1-LD配套₪₪◕₪,讓客戶自己搭建磁控濺射儀

質保期

一年質保期終生維護

應用

  • 在真空腔體中HVMSS-SPC-1-LD磁控濺射頭可製作各種薄膜₪₪◕₪,下面是一些應用↟╃₪☁:
  • 薄膜塗覆
  • 半導體器件
  • 磁記錄介質
  • 超導薄膜
  • 量子計算器件
  • MEMS
  • 生物感測器
  • 奈米技術
  • 超晶格
  • 顆粒膜
  • 記憶合金
  • 組合薄膜沉積
  • 光學薄膜
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