近距離蒸發鍍膜（ CSS）爐

簡要描述╃│✘•✘：OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發管式爐◕☁▩，專門針對於用PVD或CSS法來製作薄膜▩•│◕☁。此款管式爐爐管直徑為11" OD◕☁▩，爐管內載樣盤可放置3" 的圓形或2"x2"的方形基片▩•│◕☁。加熱元件為兩組紅外燈管◕☁▩，分別安裝在腔體的頂端和底部◕☁▩，其升溫速率高達20?C/S ▩•│◕☁。溫控系統為PID30段程式化控制◕☁▩，控溫精度為+/-1?C▩•│◕☁。儀器面板上帶有RS485介面◕☁▩，若儀表內配有控溫軟體◕☁▩，就可將升溫程式和曲線匯出

產品型號╃│✘•✘：
廠商性質╃│✘•✘：生產廠家
更新時間╃│✘•✘：2022-10-11
訪問量╃│✘•✘：899

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產品分類

薄膜製備全套裝置

3靶等離子濺射儀火焰輔助噴霧熱分解塗覆裝置超聲波霧化模組多功能試樣表面處理機小型蒸鍍儀高真空蒸發鍍膜儀小型磁控射頻濺射鍍膜儀射頻等離子磁控濺射鍍膜儀直流等離子磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射儀提拉塗膜裝置旋轉塗層裝置（勻膠機）流延及絲印塗覆裝置磁控濺射鍍膜裝置蒸發鍍膜裝置等離子鍍膜裝置熱噴塗鍍膜裝置/靜電紡絲鍍膜裝置濺射源及真空腔體檢視全部產品

詳細介紹

技術引數

真空腔體	腔體為一高純石英管尺寸╃│✘•✘： 11" OD x 10.8"ID x 9" H
真空法蘭	真空法蘭材質為316不鏽鋼製作頂部法蘭上有一KF25介面◕☁▩，可以與真空泵相連線◕☁▩，另外安裝有兩個1/4" 軟管接頭的出氣口底部法蘭上有一KF25介面◕☁▩，可以與真空泵相連線◕☁▩，另外安裝有兩個1/4" 軟管接頭的進氣口法蘭是透過兩個矽膠O型圈進行密封◕☁▩，透過機械泵其腔體內真空度可達10-2 torr◕☁▩，用分子泵其真空度可達到10-5 torr 兩個法蘭都可以透過手動操作進行上下移動一個數字式真空顯示計安裝在法蘭頂部◕☁▩，可精確測量腔體內真空度（點選圖片檢視詳細資料）
混氣系統	可以選擇兩路的混氣系統於此款管式爐搭配使用（本公司生產多路浮子和多路質子混氣系統）
加熱元件和載樣臺	由兩組IR紅外燈管進行加熱額定功率800 W 總功率╃│✘•✘：1600W 為了減小熱輻射和達到快速冷卻的效果◕☁▩，加熱元件被嵌在水冷機構上一個3"的基片載樣臺安裝腔體頂部緊貼頂部加熱元件上安裝有一氮化鋁基片（3"Dia x0.5mm Thick ）◕☁▩，使其儀器使用時樣品基片上的溫度更加均勻 3"的石墨坩堝可以放在底部加熱元件上來盛裝蒸發料
熱電偶	兩個K型熱電偶分別安裝在上下法蘭上
溫控系統	兩個控溫系統都為PID30段程式化控溫可以選購PC控溫軟體◕☁▩，將溫度程式設定和溫度曲線匯入電腦中
工作溫度	兩個加熱區域單獨工作的zui高溫度╃│✘•✘： <= 650ºC 兩個加熱區域zui大溫差: <= 350 ºC
加熱和冷卻速率	加熱速率: > 8 ºC /S 冷卻速率: > 10 ºC /S ( 600 - 100oC)
電源	208 - 240VAC, 單相, （需20A的空氣開關）
可選配件	本公司出售真空泵和水冷系統
質保期	一年質保期 (不包括爐管•◕✘✘、密封圈和加熱元件損耗件 )
質量認證	CE
相關文獻	Please read article: High efficiency CSS CdTe Solar Cell UCLA researchers improve process for manufacturing highly efficient solar cells Planar Heterojunction Perovskite Solar Cells via Vapor-Assisted Solution Process Sub 150 °C Processed Meso-superstructured Perovskite Solar Cells with Enhanced Efficiency Best_Research-Cell_Efficiencies