300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2RF

簡要描述│◕◕▩·：VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統╃✘₪₪，系統中包含了所有所需的配件╃✘₪₪，如300W（13.5MHz）的RF電源│✘✘••、2“的磁控濺射頭│✘✘••、石英真空腔體│✘✘••、真空泵和溫度控制器等✘↟。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜╃✘₪₪，它是一款物美價廉的實驗幫手✘↟。

產品型號│◕◕▩·：
廠商性質│◕◕▩·：生產廠家
更新時間│◕◕▩·：2022-10-11
訪問量│◕◕▩·：1776

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產品分類

薄膜製備全套裝置

3靶等離子濺射儀火焰輔助噴霧熱分解塗覆裝置超聲波霧化模組多功能試樣表面處理機小型蒸鍍儀高真空蒸發鍍膜儀小型磁控射頻濺射鍍膜儀射頻等離子磁控濺射鍍膜儀直流等離子磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射儀提拉塗膜裝置旋轉塗層裝置（勻膠機）流延及絲印塗覆裝置磁控濺射鍍膜裝置蒸發鍍膜裝置等離子鍍膜裝置熱噴塗鍍膜裝置/靜電紡絲鍍膜裝置濺射源及真空腔體檢視全部產品

詳細介紹

VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統╃✘₪₪，系統中包含了所有所需的配件╃✘₪₪，如300W（13.5MHz）的RF電源│✘✘••、2"的磁控濺射頭│✘✘••、石英真空腔體│✘✘••、真空泵和溫度控制器等✘↟。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜╃✘₪₪，它是一款物美價廉的實驗幫手✘↟。
我們用此裝置得到擇優取向的ZnO薄膜

技術引數

輸入電源	220VAC 50/60Hz, 單相 800W (包括真空泵）
等離子源	一個300W╃✘₪₪，13.5MHz的射頻電源安裝在移動櫃內 (點選圖片檢視詳細資料）
磁控濺射頭	一個 2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層）╃✘₪₪，採用快速接頭與真空腔體相連線靶材尺寸: 直徑為50mm,zui大厚度6.35mm 一個快速擋板安裝在法蘭上（手動操作╃✘₪₪，見圖左3）濺射頭所需冷卻水│◕◕▩·：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的迴圈水冷機）同時可選配1英寸濺射頭
真空腔體	真空腔體│◕◕▩·：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H╃✘₪₪，採用高純石英制作密封法蘭:直徑為165 mm . 採用金屬鋁製作╃✘₪₪，採用矽膠密封圈密封一個不鏽鋼網罩住整個石英腔體╃✘₪₪，以遮蔽等離子體真空度│◕◕▩·：10-3 Torr （採用雙極旋片真空泵） 10-5 torr （採渦旋分子泵）
載樣臺	載樣臺可旋轉（為了制膜更加均勻）並可加熱載樣臺尺寸│◕◕▩·：直徑50mm （zui大可放置2英寸的基片）旋轉速度│◕◕▩·：1 - 20 rpm 樣品的zui高加熱溫度為700℃╃✘₪₪，(短期使用╃✘₪₪，恆溫不超過1小時)╃✘₪₪，長期使用溫度500℃ 控溫精度+/- 10℃
真空泵	可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國製作的分子泵系統
薄膜測厚儀	一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上╃✘₪₪，可實時監控薄膜的厚度╃✘₪₪，解析度為0.10 Å LED顯示屏顯示╃✘₪₪，同時也輸入所製作薄膜的相關資料
外形尺寸
質保和質量認證	一年質保期╃✘₪₪，終生維護 CE認證
使用注意事項	這款2英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用於在單晶基片上製備氧化物膜╃✘₪₪，所以並不需要太高的真空度為了較好地排出真空腔體中的氧氣╃✘₪₪，建議用5%H2+95 %N2對真空腔體清洗╃✘₪₪，可有效減少真空腔體中的氧含量請用純度大於5N的Ar來進行等離子濺射╃✘₪₪，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水╃✘₪₪，所以建議將鋼瓶中的惰性氣體透過淨化系統過後╃✘₪₪，再匯入到真空腔體內