VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型)✘▩•，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源✘▩•，此款裝置主要用於製作非導電薄膜✘▩•，特別是一些氧化物薄膜₪▩。對於新型非導電薄膜的探索✘▩•，它是一款廉價並且高效的實驗幫手₪▩。
我們用此裝置得到擇優取向的ZnO薄膜
技術引數
輸入電源 | - 220VAC 50/60Hz, 單相
- 800W (包括真空泵）
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等離子源 | - 一個100W✘▩•，13.5MHz的射頻電源安裝在移動櫃內
- 配有一13.5MHz,100W的射頻電源（採用手動匹配）
- 可選配300W射頻電源（自動匹配）
- 注意·✘：100W手動調節的RF（射頻）電源價格較低✘▩•，但是每一次對於不同的靶材✘▩•，都需要手動設定引數才能產生等離子體✘▩•，比較耗費時間₪▩。300W自動匹配的RF（射頻）電源✘▩•，價格較昂貴✘▩•，但比較節約時間₪▩。
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磁控濺射頭 | - 一個1英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層）✘▩•，採用快速接頭與真空腔體相連線
- 靶材尺寸: 直徑為25.4mm,zui大厚度3mm
- 一個快速擋板安裝在法蘭上（手動操作✘▩•，見圖左3）
- 濺射頭所需冷卻水·✘：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的迴圈水冷機）
- 同時可選配2英寸濺射頭
- 選配2英寸濺射頭靶材尺寸·✘：直徑為50.8mm✘▩•，zui大厚度6mm
   
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真空腔體 | - 真空腔體·✘：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H✘▩•，採用高純石英制作
- 密封法蘭:直徑為165 mm . 採用金屬鋁製作✘▩•，採用矽膠密封圈密封
- 一個不鏽鋼網罩住整個石英腔體✘▩•，以遮蔽等離子體
- 真空度·✘：<1.0*10-2 Torr （採用雙極旋片真空泵）
- <5*10-5 torr （採渦旋分子泵）
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載樣臺 | - 載樣臺可旋轉（為了制膜更加均勻）並可加熱
- 載樣臺尺寸·✘：直徑50mm （zui大可放置2英寸的基片）
- 旋轉速度·✘：1 - 20 rpm
- 樣品臺的zui高加熱溫度為700℃(短期使用✘▩•，恆溫不超過1小時)✘▩•，長期使用溫度500℃
- 控溫精度+/- 10℃
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真空泵 | 可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國製作的分子泵系統   |
薄膜測厚儀 | - 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上✘▩•，可實時監測薄膜的厚度✘▩•，解析度為0.10 Å
- LED顯示屏顯示✘▩•，同時也輸入所製作薄膜的相關資料
 
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質保和質量認證 | |
使用注意事項 | - 這款1英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用於在單晶基片上製備氧化物膜✘▩•，所以並不需要太高的真空度
- 為了較好地排出真空腔體中的氧氣✘▩•，建議用5%H2+95 %N2對真空腔體清洗2-3次✘▩•，可有效減少真空腔體中的氧含量
- 請用純度大於5N的Ar來進行等離子濺射✘▩•，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水✘▩•，所以建議將鋼瓶中的惰性氣體透過淨化系統過後✘▩•，再匯入到真空腔體內
 
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