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1英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀--VTC-1RF

簡要描述·✘:VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型)✘▩•,配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源✘▩•,此款裝置主要用於製作非導電薄膜✘▩•,特別是一些氧化物薄膜₪▩。對於新型非導電薄膜的探索✘▩•,它是一款廉價並且高效的實驗幫手₪▩。

  • 產品型號·✘:
  • 廠商性質·✘:生產廠家
  • 更新時間·✘:2022-10-11
  • 訪  問  量·✘:1603

詳細介紹

VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型)✘▩•,配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源✘▩•,此款裝置主要用於製作非導電薄膜✘▩•,特別是一些氧化物薄膜₪▩。對於新型非導電薄膜的探索✘▩•,它是一款廉價並且高效的實驗幫手₪▩。

我們用此裝置得到擇優取向的ZnO薄膜

技術引數

輸入電源

  • 220VAC 50/60Hz, 單相
  • 800W  (包括真空泵)

等離子源

  • 一個100W✘▩•,13.5MHz的射頻電源安裝在移動櫃內
  • 配有一13.5MHz,100W的射頻電源(採用手動匹配)
  • 可選配300W射頻電源(自動匹配)
  • 注意·✘:100W手動調節的RF(射頻)電源價格較低✘▩•,但是每一次對於不同的靶材✘▩•,都需要手動設定引數才能產生等離子體✘▩•,比較耗費時間₪▩。300W自動匹配的RF(射頻)電源✘▩•,價格較昂貴✘▩•,但比較節約時間₪▩。
  • (點選圖片檢視詳細資料)

磁控濺射頭

  • 一個1英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層)✘▩•,採用快速接頭與真空腔體相連線
  • 靶材尺寸: 直徑為25.4mm,zui大厚度3mm
  • 一個快速擋板安裝在法蘭上(手動操作✘▩•,見圖左3)
  • 濺射頭所需冷卻水·✘:流速10ml/min(儀器中配有一臺流速為16ml/min的迴圈水冷機)
  • 同時可選配2英寸濺射頭
  • 選配2英寸濺射頭靶材尺寸·✘:直徑為50.8mm✘▩•,zui大厚度6mm  
       

真空腔體

  • 真空腔體·✘:160 mm OD x 150 mm ID x  250mm H✘▩•,採用高純石英制作
  • 密封法蘭:直徑為165 mm .  採用金屬鋁製作✘▩•,採用矽膠密封圈密封
  • 一個不鏽鋼網罩住整個石英腔體✘▩•,以遮蔽等離子體
  • 真空度·✘:<1.0*10-2 Torr (採用雙極旋片真空泵)
  •          <5*10-5 torr (採渦旋分子泵)

載樣臺

  • 載樣臺可旋轉(為了制膜更加均勻)並可加熱
  • 載樣臺尺寸·✘:直徑50mm (zui大可放置2英寸的基片)
  • 旋轉速度·✘:1 - 20 rpm
  • 樣品臺的zui高加熱溫度為700℃(短期使用✘▩•,恆溫不超過1小時)✘▩•,長期使用溫度500℃
  • 控溫精度+/- 10℃
  •  

真空泵

可選用直聯式雙極旋片泵,也可選用德國製作的分子泵系統

  

薄膜測厚儀

  • 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上✘▩•,可實時監測薄膜的厚度✘▩•,解析度為0.10 Å  
  • LED顯示屏顯示✘▩•,同時也輸入所製作薄膜的相關資料
  •  

質保和質量認證

  • 一年質保期✘▩•,終生維護
  • CE認證

使用注意事項

  • 這款1英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用於在單晶基片上製備氧化物膜✘▩•,所以並不需要太高的真空度
  • 為了較好地排出真空腔體中的氧氣✘▩•,建議用5%H2+95 %N2對真空腔體清洗2-3次✘▩•,可有效減少真空腔體中的氧含量
  • 請用純度大於5N的Ar來進行等離子濺射✘▩•,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水✘▩•,所以建議將鋼瓶中的惰性氣體透過淨化系統過後✘▩•,再匯入到真空腔體內
  •  

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