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  • MSK-NFES-3CMSK-NFES-3C靜電紡絲機

    MSK-NFES-3C靜電紡絲機(靜電紡絲)可應用於生物高分子│₪、通用高分子│₪、預聚體奈米纖維製備₪•✘│,高分子共混物奈米纖維的製備₪•✘│,具有奈米孔洞│₪、奈米顆粒│₪、奈米珠串結構的表面或薄膜的製備▩•╃↟╃。$n $n 免責宣告₪☁│:本站產品介紹內容(包括產品圖片│₪、產品描述│₪、技術引數等)僅供參考▩•╃↟╃。可能由於更新不及時和不可預知的BUG造成資料與實物的偏差▩•╃↟╃。如果您對引數有異議₪•✘│,或者想了解產品詳細資訊₪•✘│,請與本公司銷售人員▩•╃↟╃。

    訪問次數₪☁│:1671    產品價格₪☁│:面議    廠商性質₪☁│:生產廠家    更新日期₪☁│:2022-10-12

  • VTC-5RFI薄膜研究5靶頭等離子射頻磁控濺射儀

    VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀₪•✘│,針對於高通量MGI(材料基因組計劃)薄膜的研究▩•╃↟╃。特別適合用於探索固態電解質材料₪•✘│,透過5種元素₪•✘│,按16種不同配比組合▩•╃↟╃。

    訪問次數₪☁│:1665    產品價格₪☁│:面議    廠商性質₪☁│:生產廠家    更新日期₪☁│:2022-10-12

  • MSK-TH-04FA火焰輔助噴霧熱分解塗覆裝置

    火焰輔助噴霧熱分解塗覆 has been developed for research in surface quality improvement of metallic alloys and ceramics. In this technique, solution is sprayed on to a heated substrate through an oxygenacetylene

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  • MSK-SP-01A超聲波霧化模組

    超聲波霧化模組是利用超聲波能量將液體或是膠狀法分散成微米級的顆粒₪•✘│,其特點為霧粒噴出的初速度較小₪•✘│,且分散的霧粒尺寸較均勻▩•╃↟╃。MSK-SP-01A就是一超聲霧化模組₪•✘│,含有130W₪•✘│,40KHz的超聲波源₪•✘│,客戶可自行搭建超聲霧化制膜裝置▩•╃↟╃。

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  • VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

    雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀₪•✘│,其中一個靶頭採用直流(DC)濺射₪•✘│,可濺射金屬靶材製備金屬膜₪•✘│,另一個採用射頻(RF)濺射₪•✘│,可濺射金屬和氧化物靶材₪•✘│,製備金屬或氧化物膜.裝置上安裝有薄膜測厚儀可以實時監測薄膜的厚度▩•╃↟╃。此裝置可製作各種單層或多層薄膜₪•✘│,如鐵電│₪、導電₪•✘│,合金₪•✘│,半導體₪•✘│,陶瓷₪•✘│,介電₪•✘│,光學₪•✘│,氧化物和PTFE薄膜等▩•╃↟╃。而且裝置體積較小操作方便₪•✘│,是一套理想的實驗工具▩•╃↟╃。

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  • VTC-2DC直流等離子磁控濺射鍍膜儀

    直流等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統₪•✘│,系統中包含了所有所需的配件₪•✘│,如500W(600V)的DC電源│₪、2英寸的磁控濺射頭│₪、石英真空腔體│₪、真空泵和溫度控制器等▩•╃↟╃。對於製作一些金屬薄膜₪•✘│,它是一款物美價廉的實驗手▩•╃↟╃。

    訪問次數₪☁│:1712    產品價格₪☁│:面議    廠商性質₪☁│:生產廠家    更新日期₪☁│:2022-10-12

  • VTC-2RF射頻等離子磁控濺射鍍膜儀

    射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統₪•✘│,系統中包含了所有所需的配件₪•✘│,如300W(13.5MHz)的RF電源│₪、2“的磁控濺射頭│₪、石英真空腔體│₪、真空泵和溫度控制器等▩•╃↟╃。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜₪•✘│,它是一款物美價廉的實驗幫手▩•╃↟╃。

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  • VTC-1RF小型磁控射頻濺射鍍膜儀

    小型磁控射頻濺射鍍膜儀是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型)₪•✘│,配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源₪•✘│,此款裝置主要用於製作非導電薄膜₪•✘│,特別是一些氧化物薄膜▩•╃↟╃。對於新型非導電薄膜的探索₪•✘│,它是一款廉價並且高效的實驗幫手▩•╃↟╃。

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  • GSL-1800X-ZF4高真空蒸發鍍膜儀

    高真空蒸發鍍膜儀₪•✘│,特別適合蒸鍍一些對氧較敏感的金屬膜₪•✘│,如Ti, Al 和Au等₪•✘│,也可蒸鍍各種氧化物材料▩•╃↟╃。此款蒸鍍儀安裝有4個蒸鍍加熱頭.對於實驗研究₪•✘│,這是一款鍍膜效果理想並且價效比較高的實驗裝置▩•╃↟╃。

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  • GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀

    小型蒸鍍儀是一款小型真空鍍膜儀₪•✘│,特別適合蒸鍍一些輕金屬₪•✘│,如 Al. Mg, 和Li等▩•╃↟╃。同時也可對樣品進行鍍碳處理₪•✘│,Z大可處理的樣品直徑為50mm.▩•╃↟╃。

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  • GSL-1800X-SBC2多功能試樣表面處理機

    多功能試樣表面處理機是為掃描電鏡和電子揉針等進行試驗製備的裝置₪•✘│,可進行真空蒸碳│₪、真空鍍膜和離子濺射₪•✘│,它也可以在高純氫氣保護下進行等離子處理▩•╃↟╃。對於實驗室此款裝置是*的鍍膜裝置▩•╃↟╃。

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  • VTC-2RF等離子鍍膜裝置

    等離子鍍膜裝置是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統₪•✘│,系統中包含了所有所需的配件₪•✘│,如300W(13.5MHz)的RF電源│₪、2“的磁控濺射頭│₪、石英真空腔體│₪、真空泵和溫度控制器等▩•╃↟╃。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜₪•✘│,它是一款物美價廉的實驗幫手▩•╃↟╃。

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  • GSL-1800X-SBC2多功能試樣表面處理機--GSL-1800X-SBC2

    GSL-1800X-SBC2是為掃描電鏡和電子揉針等進行試驗製備的裝置₪•✘│,可進行真空蒸碳│₪、真空鍍膜和離子濺射₪•✘│,它也可以在高純氫氣保護下進行等離子處理▩•╃↟╃。對於實驗室此款裝置是*的鍍膜裝置▩•╃↟╃。

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  • KTQ-150D雙刮刀微米級可調製膜器-寬度150mm--Se-KTQ-150D

    Se-KTQ-150D是一款雙刮刀的可調製膜器₪•✘│,由於有兩個刮刀所以塗覆效果會更加均勻▩•╃↟╃。操作者可透過千分尺來調節刮刀與所塗覆平面之間的間隙₪•✘│,此工具特別適合實驗室製作電池電極₪•✘│,陶瓷膜前期的生瓷帶及各種薄膜▩•╃↟╃。

    訪問次數₪☁│:1064    產品價格₪☁│:面議    廠商性質₪☁│:生產廠家    更新日期₪☁│:2022-10-12

  • Se-KTQ-50微米級可調製膜器-寬度50mm--Se-KTQ-50

    可調製膜器-這是一款*的溼法制膜工具₪•✘│,可透過千分尺調節制膜厚度▩•╃↟╃。操作者可透過千分尺來調節刮刀與所塗覆平面之間的間隙₪•✘│,此工具特別適合實驗室製作電池電極₪•✘│,陶瓷膜前期的生瓷帶及各種薄膜▩•╃↟╃。

    訪問次數₪☁│:1062    產品價格₪☁│:面議    廠商性質₪☁│:生產廠家    更新日期₪☁│:2022-10-12

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