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射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統◕✘│☁，系統中包含了所有所需的配件◕✘│☁，如300W（13.5MHz）的RF電源▩·↟◕、2“的磁控濺射頭▩·↟◕、石英真空腔體▩·↟◕、真空泵和溫度控制器等✘↟。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜◕✘│☁，它是一款物美價廉的實驗幫手✘↟。
小型磁控射頻濺射鍍膜儀是一款小型臺式單靶等離子濺射儀（射頻磁控型）◕✘│☁，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源◕✘│☁，此款裝置主要用於製作非導電薄膜◕✘│☁，特別是一些氧化物薄膜✘↟。對於新型非導電薄膜的探索◕✘│☁，它是一款廉價並且高效的實驗幫手✘↟。
高真空蒸發鍍膜儀◕✘│☁，特別適合蒸鍍一些對氧較敏感的金屬膜◕✘│☁，如Ti, Al 和Au等◕✘│☁，也可蒸鍍各種氧化物材料✘↟。此款蒸鍍儀安裝有4個蒸鍍加熱頭.對於實驗研究◕✘│☁，這是一款鍍膜效果理想並且價效比較高的實驗裝置✘↟。
小型蒸鍍儀是一款小型真空鍍膜儀◕✘│☁，特別適合蒸鍍一些輕金屬◕✘│☁，如 Al. Mg, 和Li等✘↟。同時也可對樣品進行鍍碳處理◕✘│☁，Z大可處理的樣品直徑為50mm.✘↟。
多功能試樣表面處理機是為掃描電鏡和電子揉針等進行試驗製備的裝置◕✘│☁，可進行真空蒸碳▩·↟◕、真空鍍膜和離子濺射◕✘│☁，它也可以在高純氫氣保護下進行等離子處理✘↟。對於實驗室此款裝置是*的鍍膜裝置✘↟。
等離子鍍膜裝置是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統◕✘│☁，系統中包含了所有所需的配件◕✘│☁，如300W（13.5MHz）的RF電源▩·↟◕、2“的磁控濺射頭▩·↟◕、石英真空腔體▩·↟◕、真空泵和溫度控制器等✘↟。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜◕✘│☁，它是一款物美價廉的實驗幫手✘↟。
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