1✘╃▩、加熱蒸發過程▩↟☁：包括將凝相變為氣相的過程☁₪·。每種蒸發物質都有不同的溫度飽和蒸氣壓☁₪·。
2✘╃▩、氣態原子或分子在蒸發源與基板之間的傳輸•₪，即原子或分子在環境大氣中的飛行過程☁₪·。
3✘╃▩、在基板表面蒸發原子或分子的沉積過程☁₪·。即蒸發✘╃▩、凝結✘╃▩、成核和核生長•₪，形成連續的薄膜☁₪·。由於基板溫度遠低於蒸發源溫度•₪，因此氣態分子會在基板表面發生從氣態到固態的相變過程☁₪·。
小型蒸鍍儀的使用可分為四個步驟•₪，即氣相沉積前的準備✘╃▩、氣相沉積裝置的預熱✘╃▩、薄膜的氣相沉積和停機☁₪·。
1✘╃▩、蒸發前的準備工作▩↟☁：
（1）開啟充氣閥•₪，給鐘罩充氣•₪，然後提起鐘罩；
（2）根據鐘罩是否乾淨•₪，先用酒精清洗鐘罩內的零件；
（3）安裝鉬舟•₪，將鋁絲放入鉬舟中•₪，將待沉積的基材粘在鋁板上；
（4）鐘罩下降時•₪，觀察鐘罩下降時鐘罩內是否有物體✘╃▩、雜物☁₪·。
2✘╃▩、氣相沉積儀的預熱▩↟☁：
（1）啟動機械泵•₪，將鐘罩抽出•₪，接低真空測量•₪，直到鐘罩內的真空度降至5pa以下；
（2）調節螺桿至10-20Pa•₪，此時可對蒸鍍基板材料進行轟擊☁₪·。如果不需要轟擊•₪，則直接進行下一步☁₪·。轟擊時間根據需要控制•₪，主要用於處理沉積基板的表面☁₪·。轟擊結束後•₪，將轟擊撥盤置零•₪，然後將撥盤的“轟擊”檔轉至“關”檔；
（3）將低壓閥推至泵送系統☁₪·。當壓力低於5pa時•₪，啟動擴散泵•₪，預熱40分鐘☁₪·。
3✘╃▩、蒸發膜▩↟☁：
（1）預熱後•₪，開啟高閥☁₪·。大約40-60秒後•₪，開啟高真空測量（開啟燈絲）•₪，將低真空測量切換到擴散泵的前級測量☁₪·。當真空度達到2-3×10-3時•₪，滿足蒸發的真空度要求；
（2）開啟“工件轉動”齒輪•₪，按要求調節“工件轉動”的速度（接觸調壓值20-30）；
（3）開啟烘烤•₪，調整所需溫度•₪，根據實際需要設定烘烤時間☁₪·。如果不需要烘烤•₪，可以進行下一步氣相沉積實驗；
（4）選擇放置電極的位置•₪，開啟“蒸發”齒輪•₪，在相應的電極位置插入“銅絞”•₪，開始加大電流（約180A）溶解蒸發的物質☁₪·。當發現已經熔化時•₪，擋板會擋住蒸發源☁₪·。*熔化後•₪，開啟擋板•₪，讓材料蒸發到基材表面；
（5）蒸發後•₪，所有齒輪應歸零☁₪·。關閉高真空測量•₪，關閉高閥•₪，拔出低閥至“抽出鐘罩”位置•₪，停止機械泵•₪，待工件冷卻後給鐘罩充氣•₪，提起鐘罩•₪，取出零件•₪，並清潔塗層室☁₪·。
（6）如需額外蒸發•₪，應更換基板•₪，並給電極（鉬舟）充電☁₪·。
4✘╃▩、關機▩↟☁：
（1）如果小型蒸鍍儀蒸發完成•₪，關閉高真空測量•₪，關閉高閥•₪，停止擴散泵•₪，在實驗結束時啟動機械泵☁₪·。等待2小時冷卻後•₪，將低位閥拉至“鐘罩”位置•₪，使鐘罩內保持一定的真空度；
（2）關閉氣相沉積儀總開關；
（3）先關“進”閥•₪，再關“出”閥（冷卻水）；
（4）關閉氣相沉積儀電源；
（5）關閉主電源☁₪·。
（6）塗裝實驗結束後•₪，注意清洗所有零件的原廠零件•₪，退回所有材料•₪，並進行清潔以保持實驗室清潔☁₪·。
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