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小型蒸鍍儀的使用可分為這四個步驟

釋出時間▩↟☁:2022-08-26      點選次數▩↟☁:191
  小型蒸鍍儀蒸發鍍膜包括以下基本工藝▩↟☁:
  
  1✘╃▩、加熱蒸發過程▩↟☁:包括將凝相變為氣相的過程☁₪·。每種蒸發物質都有不同的溫度飽和蒸氣壓☁₪·。
  
  2✘╃▩、氣態原子或分子在蒸發源與基板之間的傳輸•₪,即原子或分子在環境大氣中的飛行過程☁₪·。
  
  3✘╃▩、在基板表面蒸發原子或分子的沉積過程☁₪·。即蒸發✘╃▩、凝結✘╃▩、成核和核生長•₪,形成連續的薄膜☁₪·。由於基板溫度遠低於蒸發源溫度•₪,因此氣態分子會在基板表面發生從氣態到固態的相變過程☁₪·。
  
  小型蒸鍍儀的使用可分為四個步驟•₪,即氣相沉積前的準備✘╃▩、氣相沉積裝置的預熱✘╃▩、薄膜的氣相沉積和停機☁₪·。
  
  1✘╃▩、蒸發前的準備工作▩↟☁:
  
  (1)開啟充氣閥•₪,給鐘罩充氣•₪,然後提起鐘罩;
  
  (2)根據鐘罩是否乾淨•₪,先用酒精清洗鐘罩內的零件;
  
  (3)安裝鉬舟•₪,將鋁絲放入鉬舟中•₪,將待沉積的基材粘在鋁板上;
  
  (4)鐘罩下降時•₪,觀察鐘罩下降時鐘罩內是否有物體✘╃▩、雜物☁₪·。
  
  2✘╃▩、氣相沉積儀的預熱▩↟☁:
  
  (1)啟動機械泵•₪,將鐘罩抽出•₪,接低真空測量•₪,直到鐘罩內的真空度降至5pa以下;
  
  (2)調節螺桿至10-20Pa•₪,此時可對蒸鍍基板材料進行轟擊☁₪·。如果不需要轟擊•₪,則直接進行下一步☁₪·。轟擊時間根據需要控制•₪,主要用於處理沉積基板的表面☁₪·。轟擊結束後•₪,將轟擊撥盤置零•₪,然後將撥盤的“轟擊”檔轉至“關”檔;
  
  (3)將低壓閥推至泵送系統☁₪·。當壓力低於5pa時•₪,啟動擴散泵•₪,預熱40分鐘☁₪·。
  
  3✘╃▩、蒸發膜▩↟☁:
  
  (1)預熱後•₪,開啟高閥☁₪·。大約40-60秒後•₪,開啟高真空測量(開啟燈絲)•₪,將低真空測量切換到擴散泵的前級測量☁₪·。當真空度達到2-3×10-3時•₪,滿足蒸發的真空度要求;
  
  (2)開啟“工件轉動”齒輪•₪,按要求調節“工件轉動”的速度(接觸調壓值20-30);
  
  (3)開啟烘烤•₪,調整所需溫度•₪,根據實際需要設定烘烤時間☁₪·。如果不需要烘烤•₪,可以進行下一步氣相沉積實驗;
  
  (4)選擇放置電極的位置•₪,開啟“蒸發”齒輪•₪,在相應的電極位置插入“銅絞”•₪,開始加大電流(約180A)溶解蒸發的物質☁₪·。當發現已經熔化時•₪,擋板會擋住蒸發源☁₪·。*熔化後•₪,開啟擋板•₪,讓材料蒸發到基材表面;
  
  (5)蒸發後•₪,所有齒輪應歸零☁₪·。關閉高真空測量•₪,關閉高閥•₪,拔出低閥至“抽出鐘罩”位置•₪,停止機械泵•₪,待工件冷卻後給鐘罩充氣•₪,提起鐘罩•₪,取出零件•₪,並清潔塗層室☁₪·。
  
  (6)如需額外蒸發•₪,應更換基板•₪,並給電極(鉬舟)充電☁₪·。
  
  4✘╃▩、關機▩↟☁:
  
  (1)如果小型蒸鍍儀蒸發完成•₪,關閉高真空測量•₪,關閉高閥•₪,停止擴散泵•₪,在實驗結束時啟動機械泵☁₪·。等待2小時冷卻後•₪,將低位閥拉至“鐘罩”位置•₪,使鐘罩內保持一定的真空度;
  
  (2)關閉氣相沉積儀總開關;
  
  (3)先關“進”閥•₪,再關“出”閥(冷卻水);
  
  (4)關閉氣相沉積儀電源;
  
  (5)關閉主電源☁₪·。
  
  (6)塗裝實驗結束後•₪,注意清洗所有零件的原廠零件•₪,退回所有材料•₪,並進行清潔以保持實驗室清潔☁₪·。

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