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多功能試樣表面處理機制膜時可以設定三種模式

釋出時間✘│╃✘:2022-07-14

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  多功能試樣表面處理機是一種用於掃描電鏡和電子探針的樣品製備裝置☁◕↟,可用於真空碳蒸鍍↟☁、真空鍍膜和離子濺射☁◕↟,在高純氬氣保護下也可用於各種離子處理↟▩₪。本裝置處理後的樣品既可用於樣品的外觀觀察☁◕↟,也可用於成分分析☁◕↟,尤其是成分的定量分析↟▩₪。本儀器配備機械泵和分子泵☁◕↟,分子泵系統特別適用於對真空度要求高↟☁、真空環境好的使用者↟▩₪。
  
  多功能試樣表面處理機將矽片放入真空反應系統☁◕↟,通入少量氧氣☁◕↟,加1500V高壓☁◕↟,高頻訊號發生器產生高頻訊號☁◕↟,從而形成強電磁場石英管中☁◕↟,氧氣被電離☁◕↟,形成由氧離子↟☁、活性氧原子↟☁、氧分子和電子混合而成的等離子體輝光柱↟▩₪。活性氧(活性原子氧)能迅速將聚醯亞胺薄膜氧化成揮發性氣體☁◕↟,透過機械泵抽走☁◕↟,從而去除矽片上的聚醯亞胺薄膜↟▩₪。等離子脫膠的優點是脫膠操作簡單☁◕↟,脫膠效率高☁◕↟,表面清潔光滑☁◕↟,無劃痕☁◕↟,成本低☁◕↟,環保↟▩₪。
  
  在並聯電極反應器中☁◕↟,反應離子刻蝕室採用非對稱設計☁◕↟,陰極面積小☁◕↟,陽極面積大☁◕↟,被蝕刻物放置在面積較小的電極上↟▩₪。在射頻電源產生的熱運動下☁◕↟,帶負電的自由電子質量小☁◕↟,運動速度快☁◕↟,迅速到達陰極;正離子由於質量大☁◕↟,速度慢☁◕↟,不能同時到達陰極☁◕↟,從而在陰極附近形成帶負電的鞘層↟▩₪。在鞘層的加速作用下☁◕↟,正離子垂直轟擊矽表面☁◕↟,加速矽表面的化學反應和反應產物的分離☁◕↟,產生很高的刻蝕速率↟▩₪。離子轟擊也可以實現各向異性刻蝕☁◕↟,與等離子脫脂↟☁、等離子刻蝕相同☁◕↟,區別在於反應氣體的種類和等離子體的激發方式↟▩₪。
  
  對於制膜☁◕↟,多功能試樣表面處理機可以設定三種模式✘│╃✘:
  
  1↟☁、一種模式專門用於蒸鍍
  
  本儀器可同時蒸發兩種物料☁◕↟,最高溫度可達1800℃
  
  鎢絲加熱
  
  2↟☁、碳蒸發鍍膜方式
  
  該儀器包括兩組碳棒
  
  3↟☁、DC等離子濺射模式儀器含金靶(38mmdiax0.2mmt)
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