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高真空蒸發鍍膜儀可實現多層塗裝混合塗裝

釋出時間◕✘◕:2021-09-14

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  高真空蒸發鍍膜儀採用前開門真空室設計•◕,室高增加到500mm▩│☁。樣品臺與蒸發源之間的距離有較大的調節範圍•◕,可適應多種蒸發要求•◕,避免樣品在蒸發源中高處損壞▩│☁。
  高真空蒸發鍍膜儀配有四套鎢舟蒸發源和水冷銅電極▩│☁。每個蒸發源支援100A的大電流和1800°C的加熱溫度•◕,可實現多層塗裝或多種材料混合塗裝▩│☁。型腔採用上樣品臺•◕,樣品臺可旋轉╃│││、加熱╃│││、升降•◕,所有操作均可透過觸控式螢幕整合控制▩│☁。裝置真空系統為兩級旋片泵和渦輪分子泵組成的兩級真空系統•◕,可提供潔淨無油的高真空環境▩│☁。該裝置配有氣動閥門系統▩│☁。透過作業系統的自動控制•◕,使用者可以透過觸控式螢幕進行一鍵抽真空╃│││、不停機取樣╃│││、完全關機等操作▩│☁。
  蒸發鍍膜儀可提供100A的鍍膜電流•◕,蒸發溫度可達1800℃•◕,可滿足各種普通金屬的蒸發和部分非金屬的蒸發▩│☁。真空室由非不鏽鋼製成▩│☁。出廠時已脫氣•◕,配合分子泵組可達到極限真空•◕,可滿足大部分物料蒸發所需的真空環境▩│☁。真空室採用翻蓋式開啟方式•◕,取放方便▩│☁。腔體設有帶擋板的自適應觀察窗•◕,用於觀察鍍膜過程•◕,擋板可有效防止觀察窗被薄膜材料汙染▩│☁。
  高真空蒸發鍍膜儀是一個多功能系統•◕,具有靈活性和模組化可擴充套件性•◕,可適應不同的樣品製備▩│☁。它可用於從蒸籠和坩堝以及可選的濺射附件蒸發中蒸發碳和金屬▩│☁。可以應用一系列經過驗證的技術•◕,包括碳塗層和TEM塗層╃│││、碳/金屬蒸發╃│││、使用雙源蒸發的小角度和順序塗層•◕,並且可選的濺射塗層附件可以應用於各種目標▩│☁。
  1╃│││、採用微處理器控制器•◕,提高了系統的靈活性•◕,使用者可以方便地新增各種選項▩│☁。但是•◕,這些“預設”操作已經過最佳化•◕,因此可以實現自動和手動操作▩│☁。
  2╃│││、*的抽屜式上樣系統•◕,方便使用者放入各種樣品•◕,鉸接式頂蓋結構方便到達系統其他區域▩│☁。
  3╃│││、渦輪分子泵安裝在系統外•◕,蒸發鍍膜儀安裝更換方便▩│☁。它的前置真空是旋轉真空泵▩│☁。整個抽氣過程是全自動的•◕,達到高真空後會蒸發▩│☁。儀器為臺式•◕,使用中疏忽易控制•◕,易損壞▩│☁。
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