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高真空蒸發鍍膜儀可實現多層塗裝混合塗裝

釋出時間₪▩╃:2021-09-14      點選次數₪▩╃:477
  高真空蒸發鍍膜儀採用前開門真空室設計·◕↟₪,室高增加到500mm☁◕。樣品臺與蒸發源之間的距離有較大的調節範圍·◕↟₪,可適應多種蒸發要求·◕↟₪,避免樣品在蒸發源中高處損壞☁◕。
  高真空蒸發鍍膜儀配有四套鎢舟蒸發源和水冷銅電極☁◕。每個蒸發源支援100A的大電流和1800°C的加熱溫度·◕↟₪,可實現多層塗裝或多種材料混合塗裝☁◕。型腔採用上樣品臺·◕↟₪,樣品臺可旋轉▩•☁╃、加熱▩•☁╃、升降·◕↟₪,所有操作均可透過觸控式螢幕整合控制☁◕。裝置真空系統為兩級旋片泵和渦輪分子泵組成的兩級真空系統·◕↟₪,可提供潔淨無油的高真空環境☁◕。該裝置配有氣動閥門系統☁◕。透過作業系統的自動控制·◕↟₪,使用者可以透過觸控式螢幕進行一鍵抽真空▩•☁╃、不停機取樣▩•☁╃、*關機等操作☁◕。
  蒸發鍍膜儀可提供100A的鍍膜電流·◕↟₪,蒸發溫度可達1800℃·◕↟₪,可滿足各種普通金屬的蒸發和部分非金屬的蒸發☁◕。真空室由非不鏽鋼製成☁◕。出廠時已脫氣·◕↟₪,配合分子泵組可達到極限真空·◕↟₪,可滿足大部分物料蒸發所需的真空環境☁◕。真空室採用翻蓋式開啟方式·◕↟₪,取放方便☁◕。腔體設有帶擋板的自適應觀察窗·◕↟₪,用於觀察鍍膜過程·◕↟₪,擋板可有效防止觀察窗被薄膜材料汙染☁◕。
  高真空蒸發鍍膜儀是一個多功能系統·◕↟₪,具有靈活性和模組化可擴充套件性·◕↟₪,可適應不同的樣品製備☁◕。它可用於從蒸籠和坩堝以及可選的濺射附件蒸發中蒸發碳和金屬☁◕。可以應用一系列經過驗證的技術·◕↟₪,包括碳塗層和TEM塗層▩•☁╃、碳/金屬蒸發▩•☁╃、使用雙源蒸發的小角度和順序塗層·◕↟₪,並且可選的濺射塗層附件可以應用於各種目標☁◕。
  1▩•☁╃、採用微處理器控制器·◕↟₪,提高了系統的靈活性·◕↟₪,使用者可以方便地新增各種選項☁◕。但是·◕↟₪,這些“預設”操作已經過最佳化·◕↟₪,因此可以實現自動和手動操作☁◕。
  2▩•☁╃、*的抽屜式上樣系統·◕↟₪,方便使用者放入各種樣品·◕↟₪,鉸接式頂蓋結構方便到達系統其他區域☁◕。
  3▩•☁╃、渦輪分子泵安裝在系統外·◕↟₪,蒸發鍍膜儀安裝更換方便☁◕。它的前置真空是旋轉真空泵☁◕。整個抽氣過程是全自動的·◕↟₪,達到高真空後會蒸發☁◕。儀器為臺式·◕↟₪,使用中疏忽易控制·◕↟₪,易損壞☁◕。

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