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知道高真空蒸發鍍膜儀蒸發源的選取原則嗎··?

釋出時間•☁╃↟₪:2021-05-25

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  高真空蒸發鍍膜儀採用鎢絲籃作為蒸發源☁◕│,蒸發源上覆蓋有高純氧化鋁坩堝☁◕│,樣品臺與蒸發源之間的距離可調│☁。該儀器具有高精度的溫度控制系統☁◕│,並採用迴圈加熱的方法來穩定地蒸發金屬和某些有機物質│☁。高純度石英腔用作真空腔☁◕│,塗層過程完全可見│☁。該儀器配有雙極旋轉葉片真空泵☁◕│,可以快速達到1.0E-1Pa的真空度☁◕│,可以滿足大多數蒸發鍍膜實驗所需的真空環境│☁。它適用於大多數金屬和某些有機材料薄膜的蒸發和塗層☁◕│,結構緊湊☁◕│,體積小巧☁◕│,是一種經濟高效的實驗室鍍膜裝置│☁。
  1·◕₪◕、電流和電壓檢測器以及先進的反饋控制技術使鍍碳過程穩定☁◕│,高效│☁。
  2·◕₪◕、脈衝和連續模式可以隨意切換│☁。
  3·◕₪◕、提供“手動”和“自動”兩種模式│☁。在“手動”模式下☁◕│,可以調節電壓和時間旋鈕☁◕│,以控制碳電鍍過程│☁。在“自動”模式下☁◕│,客戶只需要事先設定程式☁◕│,碳鍍層儀器將完全按照您的指示執行│☁。
  高真空蒸發鍍膜儀真空鍍膜是將固體材料放置在真空室內的方法│☁。在真空條件下☁◕│,將固體材料加熱以蒸發☁◕│,並且蒸發的原子或分子可以在容器壁上自由散佈│☁。當將一些經過處理的基板材料放入其中時☁◕│,蒸發的原子或分子將被吸附在基板上並逐漸形成薄膜│☁。真空鍍膜有兩種方法☁◕│,一種是蒸發☁◕│,另一種是濺射│☁。用於製造薄膜的材料在真空中加熱和蒸發☁◕│,以將其沉積在合適的表面上│☁。
  選擇高真空蒸發鍍膜儀的蒸發源的原理為•☁╃↟₪:
  1·◕₪◕、具有良好的熱穩定性☁◕│,且無化學活性│☁。當達到蒸發溫度時☁◕│,加熱器本身的蒸氣壓必須足夠低│☁。
  2·◕₪◕、蒸發源的熔點高於被蒸發物質的蒸發溫度│☁。加熱器必須具有足夠的熱容量│☁。
  3·◕₪◕、蒸發材料和蒸發源材料的相互熔化必須非常低☁◕│,並且不易形成合金│☁。
  4·◕₪◕、用於螺旋形蒸發源的材料需要與蒸發材料具有良好的滲透性並且具有大的表面張力│☁。
  5·◕₪◕、當不易製成細絲時☁◕│,或當蒸發材料與細絲蒸發源之間的表面張力較小時☁◕│,可以使用船形蒸發源│☁。
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