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高真空蒸發鍍膜儀可為薄膜應用提供理想塗層平臺

釋出時間│✘◕↟▩:2021-02-23      點選次數│✘◕↟▩:507
  高真空蒸發鍍膜儀可以為薄膜應用和其他材料提供理想的塗層平臺,特別適用於場發射電子顯微鏡☁·╃,透射電子顯微鏡和非晶碳熔覆/TEM網格支撐膜的樣品製備✘╃▩。是全自動程式控制☁·╃,彩色觸控式螢幕介面☁·╃,操作簡單☁·╃,可以鍍金鉑和其他非氧化的貴金屬和其他易氧化膜材料的細顆粒✘╃▩。
  高真空蒸發鍍膜儀是具有靈活性和模組化可擴充套件性的多功能系統☁·╃,可以適應不同的樣品製備✘╃▩。它可用於蒸發蒸籠和坩堝中的碳和金屬☁·╃,以及可選的濺射附件蒸發✘╃▩。可以應用一系列行之有效的技術☁·╃,包括碳塗層和TEM塗層☁·╃,碳/金屬蒸發☁·╃,使用雙源蒸發的低角度塗層和順序塗層☁·╃,以及可選的濺射鍍膜附件可以應用於多種目標✘╃▩。其設計使其操作更容易實現✘╃▩。
  1▩•││、使用微處理器控制器可以增強系統的靈活性☁·╃,並且使用者可以輕鬆新增各種選項✘╃▩。但是☁·╃,這些“預設”操作已經過最佳化☁·╃,因此可以實現自動和手動操作✘╃▩。
  2▩•││、*的抽屜式樣品裝載系統便於使用者放入各種樣品☁·╃,而鉸接式頂蓋結構易於到達系統的其他區域✘╃▩。
  3▩•││、渦輪分子泵安裝在系統外部☁·╃,可以輕鬆安裝和更換高真空蒸發鍍膜儀✘╃▩。它的前真空是旋轉真空泵✘╃▩。整個泵送過程是*自動化的☁·╃,在達到高真空後會蒸發✘╃▩。該儀器是桌上型電腦☁·╃,使用中的疏忽易於控制且易於損壞✘╃▩。

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