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高真空蒸發鍍膜儀的設計讓其操作更容易實現

釋出時間✘₪╃☁:2020-09-17

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  高真空蒸發鍍膜儀是全自動程式控制☁╃,彩色觸控式螢幕介面☁╃,操作簡單☁╃,它可以鍍金(AU)☁╃,鉑(PT)和其他非氧化的貴金屬☁╃,也可以鍍銥(IR)☁╃,鉻(CR)☁╃,鋁(AL)和其他易氧化膜材料的細顆粒·│✘╃。它特別適用於場發射電子顯微鏡☁╃,透射電子顯微鏡和非晶碳熔覆/TEM網格支撐膜的樣品製備☁╃,還可以為薄膜應用和其他材料領域提供理想的塗層平臺·│✘╃。
  高真空蒸發鍍膜儀是一種多功能系統☁╃,具有靈活性和模組化擴充套件性☁╃,可適應不同的樣品製備☁╃,它可用於從蒸籠和坩堝以及可選的濺射附件進行碳蒸發和金屬蒸發·│✘╃。可以應用一系列行之有效的技術☁╃,包括碳鍍層和TEM覆層☁╃,碳/金屬蒸發☁╃,低角度和使用雙源蒸發的順序塗層☁╃,可選的濺射鍍膜附件可應用於多種目標·│✘╃。它的設計讓其操作更容易實現·│✘╃。
  1▩▩•、透過使用微處理器控制器增強了系統的靈活性☁╃,使用者可以輕鬆新增各種選項·│✘╃。但是☁╃,這些“預設”操作已得到最佳化☁╃,因此自動和手動操作都可以實現操作·│✘╃。
  2▩▩•、*的抽屜式樣品裝載系統☁╃,方便使用者放入各種樣品☁╃,鉸鏈頂蓋結構易於觸及系統的其他區域·│✘╃。
  3▩▩•、渦輪分子泵安裝在系統外部☁╃,高真空蒸發鍍膜儀可以輕鬆安裝和更換·│✘╃。它的前真空是旋轉真空泵·│✘╃。整個泵送過程是全自動控制的☁╃,達到高真空後會蒸發·│✘╃。該儀器是臺式的☁╃,使用中的疏忽很容易控制並且容易損壞·│✘╃。
 
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