等離子鍍膜裝置主要優勢體現

　　等離子鍍膜裝置主要優勢體現╃••╃╃：

　　1☁↟₪₪、AF噴塗裝置採用原裝德國進口奈米噴頭·•₪✘•，噴頭採用高低壓轉換霧化設計·•₪✘•，使液態分子極精細·•₪✘•，且不影響藥水效果✘·。

　　2☁↟₪₪、恆定流量控制系統·•₪✘•，保證藥水平穩恆定的供流·•₪✘•，而非波浪線式供流·•₪✘•，解決白霧現象✘·。

　　3☁↟₪₪、控制噴塗藥量·•₪✘•，提高藥水的霧化能力·•₪✘•，使膜層與玻璃能均勻的結合·•₪✘•，提高產品噴塗的均勻性·•₪✘•，增大膜層表面爽滑度✘·。

　　4☁↟₪₪、噴嘴運動速度及輸送線速度均可調·•₪✘•，極大的提高生產效率·•₪✘•，滿足各種使用者需求✘·。

　　5☁↟₪₪、理論設計產能3000片-4000片/小時✘·。

　　6☁↟₪₪、採用雙等離子處理·•₪✘•，鍍膜前對工件進行清潔處理·•₪✘•，降低工件本身附帶的雜質·•₪✘•，使玻璃表面與膜層發生附和反應·•₪✘•，提高膜層結合的牢固度·•₪✘•，提升產品的抗老化以及耐摩擦能力·•₪✘•，使鍍膜品質更高✘·。

　　表面清潔╃••╃╃：對於C,O髒汙(有機物)·•₪✘•，大氣等離子有很強洗淨效果（氧化反應)

　　表面活性化╃••╃╃：等離子分解分子結合材料☁↟₪₪、形成OH基=活性效果✘·。

　　表面粗麵化╃••╃╃：等離子粒子以NM單位破壞表面=粗麵效果✘·。

　　特別提示╃••╃╃：等離子鍍膜裝置主要是用於在單晶基片上製備氧化物膜·•₪✘•，所以並不需要太高的真空度為了較好地排出真空腔體中的氧氣·•₪✘•，建議用5%H2+95%N2對真空腔體清洗·•₪✘•，可有效減少真空腔體中的氧含量請用純度大於5N的Ar來進行等離子濺射·•₪✘•，甚至5N的Ar中也含有10-100ppm的氧和水·•₪✘•，所以建議將鋼瓶中的惰性氣體透過淨化系統過後·•₪✘•，再匯入到真空腔體內✘·。