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雙靶磁控濺射儀的操作規範

釋出時間↟•▩↟│:2018-03-27      點選次數↟•▩↟│:1009
   雙靶磁控濺射儀是一款新型的鍍膜裝置◕☁◕▩₪,可用於製備單層或多層鐵電薄膜₪│☁、導電薄膜₪│☁、合金薄膜₪│☁、半導體薄膜₪│☁、陶瓷薄膜₪│☁、介質薄膜₪│☁、光學薄膜₪│☁、氧化物薄膜₪│☁、硬質薄膜₪│☁、聚四氟乙烯薄膜等·₪☁·。與同類裝置相比◕☁◕▩₪,其不僅應用廣泛◕☁◕▩₪,且具有體積小便於操作的優點,是一款實驗室製備材料薄膜的理想裝置·₪☁·。
  雙靶磁控濺射儀操作規範↟•▩↟│:
  雙靶磁控濺射儀開機
  1₪│☁、開啟冷水機·₪☁·。設定溫度↟•▩↟│:冬天10-15℃◕☁◕▩₪,夏天5℃
  2₪│☁、開啟放氣閥破真空◕☁◕▩₪,然後關閉放氣閥(之後整個工作過程務必保證放氣閥均是關閉狀態·₪☁·。本機閥門均是逆時針開啟◕☁◕▩₪,順時針關閉)
  3₪│☁、開啟總控電源
  4₪│☁、開啟真空計(電阻單元真空範圍10Pa◕☁◕▩₪,電離單元0.1-10-6Pa)
  5₪│☁、開啟燈◕☁◕▩₪,檢查鍍膜腔是否關緊(觀察腔四周是否有光線)
  6₪│☁、開啟機械泵電磁閥◕☁◕▩₪,此時務必保證放氣閥已經關閉│↟!│↟!│↟!
  7₪│☁、開啟預抽閥
  8₪│☁、當壓強達到10Pa以下開啟分子泵→執行→關閉預抽閥→*開啟插板閥
  雙靶磁控濺射儀使用
  1₪│☁、當腔內壓強真空度達到要求後◕☁◕▩₪,開啟氣罐(指標調至刻度1-2之間)◕☁◕▩₪,關小插板閥◕☁◕▩₪,儀器的工作氣壓為1-10Pa·₪☁·。
  2₪│☁、關閉電離單元按下“自動”→電離→開啟進氣閥→流量計(mL/min)
  3₪│☁、在保持輸入氣體比例基本不變的條件下調節進氣量或者調節插板閥使氣壓處於1-10Pa◕☁◕▩₪,是5Pa◕☁◕▩₪,流量計開關一般在“閥控”·₪☁·。
  4₪│☁、開啟射頻開關“ON”觀察有無起灰◕☁◕▩₪,若無起灰再調節功率或進氣量 關機
  氣體流量計歸零→關閉狀態→關閉進氣閥→關閉控氣閥→關閉插板閥→關閉氣瓶→射頻/直流功率歸零→“OFF” →溫度電源歸零關閉→流量計關閉→分子泵停止待轉速歸零→關閉開關→關閉電磁閥→關閉機械泵→放氣閥開啟→放完氣以後關閉·₪☁·。

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