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闡述等離子鍍膜裝置的使用所具備的優勢

釋出時間▩│·↟:2017-10-11      點選次數▩│·↟:832
  等離子鍍膜裝置是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統•✘,系統中包含了所有所需的配件•✘,如300W(13.5MHz)的RF電源✘╃╃、2“的磁控濺射頭✘╃╃、石英真空腔體✘╃╃、真空泵和溫度控制器等☁•。對於製作一些金屬薄膜及非金屬薄膜•✘,它是一款物美價廉的實驗幫手☁•。

等離子鍍膜裝置


  等離子鍍膜裝置優勢▩│·↟:
  1✘╃╃、AF噴塗裝置採用原裝德國進口奈米噴頭•✘,噴頭採用高低壓轉換霧化設計•✘,使液態分子極精細•✘,且不影響藥水效果;
  2✘╃╃、鋨儲存器可拆卸▩│·↟:具有密封式結構•✘,可冷凍儲存;
  3✘╃╃、理論設計產能3000片-4000片/小時;
  4✘╃╃、噴嘴運動速度及輸送線速度均可調•✘,極大的提高生產效率•✘,滿足各種使用者需求;
  5✘╃╃、控制噴塗藥量•✘,提高藥水的霧化能力•✘,使膜層與玻璃能均勻的結合•✘,提高產品噴塗的均勻性•✘,增大膜層表面爽滑度;
  6✘╃╃、採用雙等離子處理•✘, 鍍膜前對工件進行清潔處理•✘, 降低工件本身附帶的雜質•✘,使玻璃表面與膜層發生附和反應•✘,提高膜層結合的牢固度•✘,提升產品的抗老化以及耐摩擦能力•✘,使鍍膜品質更高;
  7✘╃╃、自動化控制•✘,鍍膜時只需設定薄膜厚度•✘,鍍膜過程自動完成;
  8✘╃╃、恆定流量控制系統•✘,保證藥水平穩恆定的供流•✘,而非波浪線式供流•✘,解決白霧現象;
  9✘╃╃、鍍膜時間短▩│·↟:只需幾秒鐘膜厚就可以達到奈米級;
  10✘╃╃、裝有互鎖迴路▩│·↟:一但 OsO4 氣體進入腔體•✘,真空不達標•✘,腔體就無法開啟☁•。

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